赤外線加熱と熱風加熱：ウェーハの加熱を待つ時間をなくそう 依然として、多くの半導体製造ラインで、ウェーハを所定の温度にするために熱風を利用している。これは古いやり方であり、正直、非効率的だ。 問題は、熱の伝達が遅いことです。空気は熱を伝えるのが非常に下手なので、チャンバーが十分に暖まり、ウェーハが...

熱の無駄遣いをやめよう：ウェーハを効率的に加熱する方法 シリコンウェーハを加熱することは一見簡単そうに思えますが、実際に現場で作業をしているエンジニアなら、実際の問題が何であるかを知っています。それは、不要な熱です。 一般的な加熱装置を使うと、エネルギーはウェーハだけでなく、真空チャンバーの内壁に...

赤外線を利用したMEMSウェーハの乾燥処理 MEMSセンサー用ウェーハを乾燥させる際には、適切なバランスを見つける必要があります。水分を取り除く必要はありますが、同時に残留物を残してはいけません。また、ハードウェアに過度な負担をかけてはなりません。 そのため、私たちは赤外線を利用するのです。化学薬...

治療用ランプによる装置全体の過熱を防ぎましょう もしIRエネルギーが装置の筐体内部に漏れ込んでいるなら、それは設計上の問題です。これはごく当然のことです。 高出力のIRランプを使用すると、その放射エネルギーはウェーハ上に留まるだけではありません。エネルギーは周囲に広がっていきます。その熱がどこに行...

真空チェンバーを過度に加熱しないようにしましょう 半製品の製造に携わったことがある人なら、その苦労はよくわかるでしょう。ウェーハを適切な温度に保つ必要がありますが、その過程で装置全体が焼けてしまっては困ります。 問題は、一般的なIRランプは実質的には強化された電球のようなもので、熱をあらゆる方向に...

はじめに 実際に悩みの種となっている問題について話しましょう。それは、信じられないほど高価な輸入品の半導体部品です。具体的には、ウェーハ処理を円滑に進めるために必要な赤外線加熱ランプのことです。 皆が気にしている大きな疑問は、本当に、そのまま交換できる国産品を手に入れることができるかどうかです。何...

200mmプロセスにおいて、洗浄後の乾燥処理は単なる停止時間に過ぎません。実際には、表面張力や残存する溶剤、微細な汚染物質が、次のフォトレジスト塗布が所定の基準を満たすかどうかを決定するのです。そうでなければ、リソグラフィー工程で問題が生じます。 実際に重要なのは何か 私たちの200mmウェーハ乾...

24時間稼働のファブフロアでは、ベーク温度のわずかな変動や粒子のスパイクが単なるグラフ上の線として現れるだけでなく、多数のウェハを廃棄する原因となる。ウェハ処理においては、フォトレジストのソフトベークおよびハードベーク中の熱的逸脱に対して一切の余裕がない。そこで当社では、サイクルごとに熱プロファイ...