半導体加熱技術の未来

工場フロアでは、フォトレジストの焼成中に0.5℃のドリフトは「小さな偏差」ではありません。それはラインを破壊する要因です。ウェーハはリソグラフィーのために待機し、熱的不安定性がスループットを分単位で奪い、デバイスが廃棄されます。生の温度を追いかけることは忘れてください。重要なのは制御、再現性、およ...