200毫米晶圆干燥模块

在200毫米晶圆加工线上，清洁后的干燥工序并非简单的等待时间。实际上，表面张力、残留溶剂以及微小污染物等因素决定了下一层光刻胶能否正确沉积在晶圆上——否则，光刻过程就会失败。 真正重要的因素是什么？ 我们的200毫米晶圆干燥模块采用了可重复控制的热处理方式。加热区域内的温度均匀性可保持在±0.1℃...