停止浪费热量：更有效的晶圆加热方式
给硅晶圆加热听起来很简单，但任何有过实际操作经验的工程师都知道，真正的难题在于如何控制热量分布。
当使用那种会向四周散发热量的普通加热器时，热量不仅会作用于晶圆本身，还会影响到真空腔室的内壁。这显然会带来灾难性后果——要么是设备结构变形，要么就是操作人员一打开机器就会被烫伤。这种情况既令人沮丧，其实也是可以避免的。
集中热量
关键在于不再让热量向各个方向散开，而是将其集中到特定位置。与其让灯泡向360度范围内散发热量，不如使用短波红外线发射器和专用反射器。这就好比用聚光手电筒代替普通灯泡——光线能够直接照射到晶圆表面。这样，热量就不会再四处扩散，而能准确到达需要加热的位置。结果嘛？晶圆的升温速度会大大加快，而且机器的外壳也能保持低温。
找到最佳距离
当然，也不能把高功率的灯泡直接贴在晶圆上。必须留出一定的安全距离。如果距离太近，就会出现局部过热的情况，从而损坏晶圆。但如果距离太远，热量又会再次扩散到整个腔室内。所以，需要找到一个平衡点。我们需要根据所需的加热程度以及腔室所能承受的功率来调整参数。虽然短波灯能在小空间内产生大量热量，但请记住：输入的功率越大，冷却系统就需要更加努力地工作。否则，密封件可能会因为过高的温度而熔化。
现实考量
其实，定向加热并不能解决所有问题。由于热量高度集中，晶圆的中心部分会承受最大的热量。因此，需要调整灯泡的高度和功率，以确保整个晶圆表面的温度均匀。另外，如果冷却系统不够强大，那么即使是定向加热，也难免会让周围的部件过热。所以，还是需要一个可靠的冷却系统，否则物理规律最终会让你付出代价。