
Dalam proses litografi, langkah pembakaran bukanlah sesuatu yang berlaku secara rawak, sebaliknya ia merupakan proses kawalan yang tepat. Jika proses pembakaran yang dilakukan tidak konsisten, ia akan menyebabkan variasi ketebalan lapisan fotoresist, serta masalah lain seperti gelombang resonans dan penurunan kualiti produk. Kami telah mencipta lampu pembakaran fotoresist yang mampu mengatasi masalah ini.
Inti dari sistem ini adalah kawalan suhu yang tepat pada permukaan wafer. Penggunaan unsur halogen berfrekuensi pendek dan sederhana, digabungkan dengan optik kuarsa dan penderia yang canggih, membolehkan respons termal yang cepat dan konsisten. Di seluruh permukaan pembakaran, kita dapat mengekalkan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C.
Dari segi persekitaran bilik bersih pula, sistem ini sesuai untuk kelas 1–100. Ini dicapai melalui penggunaan bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta reka bentuk yang memastikan tiada zarah terhasil semasa operasi. Dengan cara ini, suhu pembakaran fotoresist dapat dikawal dengan tepat, dan data berkaitan suhu tersebut dapat direkodkan serta digunakan untuk membandingkan prestasi antara mesin-mesin yang berbeza.
Proses pengeluaran semikonduktor bergantung pada kestabilan. Dengan adanya sistem ini, kita dapat memastikan hasil yang konsisten dari satu syif ke syif yang lain, mengurangkan sisa bahan, dan meminimumkan kerja pembetulan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, tanpa perlu menggunakan tenaga lebihan. Di kilang-kilang yang menghasilkan barang dalam kuantiti yang banyak, kestabilan ini sangat penting untuk memastikan proses pengeluaran berjalan lancar, mengurangkan kos per wafer, dan memastikan kualiti produk yang konsisten.
Satu perkara penting yang perlu diperhatikan ialah untuk mencapai keseragaman suhu sebanyak ±0.1°C, integrasi antara pemegang wafer dan sistem kawalan suhu haruslah sangat baik. Penyesuaian output lampu agar sesuai dengan profil termal alat yang digunakan bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan.
Proses persiapan sistem ini memerlukan masa yang singkat untuk menyesuaikan tetapan, sensor, dan kaedah pembakaran. Setelah disesuaikan, sistem ini dapat beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan. Namun, proses penyesuaian awal ini merupakan sebahagian daripada proses pemasangan sistem tersebut.