Di lantai pengeluaran wafer, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan faktor penting yang menentukan sama ada produk yang dihasilkan berkualiti atau sebaliknya. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan akan menyebabkan perubahan pada dimensi-dimensi kritikal bahan tersebut, dan seterusnya mengakibatkan masalah tertentu. Kami mencipta soket lampu inframerah ini untuk memastikan kestabilan suhu yang diperlukan oleh alat-alat pengeluaran wafer.
Dari segi teknikal, apa yang penting adalah sama seperti apa yang penting dalam proses pengeluaran secara umumnya. Kami menggunakan pengeluarkan cahaya NIR berfrekuensi rendah dan sederhana, bersama-sama dengan komponen kuarsa, untuk memberikan pemanasan yang cepat dan efektif, serta jangka hayat yang panjang. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala ketepatan antara setiap proses pengeluaran pula adalah sekitar ±0.5°C. Kestabilan output pula adalah kurang daripada 2% dalam masa 5,000 jam operasi. Paket ini direka untuk digunakan 24/7, dengan pilihan sambungan dan cara pemasangan yang sesuai dengan alat-alat pengeluaran wafer yang biasa digunakan.
Inilah sebab mengapa sistem ini sesuai digunakan dalam proses litografi. Soket ini memastikan proses pemanasan bahan fotoresist berlaku dalam julat suhu yang ditetapkan, tanpa melebihi hadnya. Keserasian dengan bilik bersih kelas 1–100 dicapai melalui penggunaan bahan yang kurang mengeluarkan gas, serta reka bentuk yang mengawal jumlah zarah di udara. Cahaya NIR memanaskan bahan fotoresist secara langsung, sehingga lebih sedikit haba terbuang, dan penggunaan tenaga juga dapat dikurangkan. Penggunaan lampu yang jarang perlu diganti bermakna masa henti yang tidak dijangka dapat dikurangkan, dan profil pemanasan yang konsisten membantu mengawal ketepatan ukuran wafer serta permukaannya.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan: Pastikan spektrum cahaya yang digunakan sesuai dengan kepekaan bahan fotoresist, dan pastikan bidang fokus lampu sejajar dengan permukaan wafer. Jika tidak, ia akan menyebabkan ketidaksamaan suhu pada wafer. Terdapat masa pemanasan singkat semasa proses pencairan bahan fotoresist – masukkan masa ini ke dalam urutan permulaan proses pengeluaran. Pastikan voltan dan logik keselamatan alat tersebut sesuai dengan spesifikasi soket tersebut; kesalahan kabel akan memendekkan jangka hayat lampu dan menimbulkan masalah keselamatan.