Tại sao chúng ta lại từ bỏ phương pháp sử dụng không khí nóng để chuyển sang sử dụng tia hồng ngoại trong quy trình xử lý chất bán dẫn?
Hãy tưởng tượng cách hoạt động của lò nướng kiểu đối lưu: bạn làm nóng không khí, và sau đó không khí ấy mới làm nóng thức ăn. Điều này tạo ra một khoảng chậm trễ trong quá trình xử lý. Trong ngành chế tạo chất bán dẫn, sự chậm trễ này là điều không thể chấp nhận được – đó là sự lãng phí thời gian mà chúng ta không thể chi trả được.
Đó là lý do tại sao chúng ta sử dụng đèn hồng ngoại có độ tinh khiết cực cao. Bằng cách này, chúng ta loại bỏ hoàn toàn yếu tố “không khí” khỏi quy trình xử lý.
Sự khác biệt về tốc độ thật đáng kinh ngạc.
Vì đèn hồng ngoại sử dụng bức xạ điện từ, nên nhiệt lượng sẽ tức thì tác động lên wafer ngay khi bạn bật công tắc. Trong khi đó, hệ thống sử dụng không khí nóng vẫn phải mất vài phút để đạt được nhiệt độ mong muốn. Với đèn hồng ngoại, việc đạt được nhiệt độ cần thiết chỉ mất vài giây thôi.
Điều này giúp rút ngắn thời gian xử lý. Bạn có thể xử lý nhiều wafer hơn trong mỗi ca làm việc.
Bây giờ, hãy nói về yếu tố “sạch” trong phòng sạch. Việc thoát khí có thể gây ra nhiều vấn đề. Những chiếc đèn thông thường thường giải phóng các chất gây ô nhiễm, nhưng những chiếc đèn hồng ngoại có độ tinh khiết cực cao lại sử dụng thạch anh tổng hợp chất lượng cao và các bộ phận kín khít. Không có chất gây ô nhiễm nào được giải phóng ra ngoài. Chúng tôi duy trì mật độ công suất cao để toàn bộ thiết bị không chiếm quá nhiều diện tích.
Tuy nhiên, cần lưu ý rằng những chiếc đèn này tiêu thụ rất nhiều điện năng. Nếu bộ biến áp của bạn không đủ khả năng đáp ứng dung lượng điện cao này, bạn sẽ gặp vấn đề về điện áp. Khi điện áp giảm, việc đảm bảo độ đồng đều về nhiệt độ sẽ trở nên khó khăn.
Đây không phải là giải pháp có thể áp dụng ngay lập tức.
Việc chuyển từ phương pháp sử dụng không khí nóng sang phương pháp sử dụng tia hồng ngoại đòi hỏi sự lập kế hoạch cẩn thận. Tia hồng ngoại có tính chất hướng tâm, vì vậy bạn cần phải xác định chính xác vị trí các vùng nóng. Nếu sai lệch vài milimet thôi, bạn sẽ gặp vấn đề về sự không đồng đều về nhiệt độ trên wafer. Đó là một thách thức lớn.
Lời khuyên của tôi là: đừng thay đổi mọi thứ cùng lúc. Hãy bắt đầu với những khu vực mà thời gian xử lý là yếu tố quan trọng nhất. Hãy đảm bảo rằng nhiệt độ ở những khu vực này đạt yêu cầu trước, sau đó mới chuyển sang xử lý các khu vực khác.
Lợi ích thực sự không chỉ nằm ở mức công suất mà còn ở hiệu suất. Bạn sẽ tiết kiệm được rất nhiều thời gian khi sử dụng phương pháp này.