Di bilik pengeringan wafer, perubahan suhu semasa proses pengeringan atau adanya kawasan sejuk di dalam bilik pengeringan akan mengurangkan...

Di bilik bersih tersebut, perubahan suhu sebanyak 1.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan profil fotoresist yang sepatutnya memenuhi spesifikasi...