Di bilik bersih tersebut, perubahan suhu sebanyak 1.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan profil fotoresist yang sepatutnya memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Oleh itu, kami mencipta pemanas inframerah khusus untuk bilik bersih ini, agar variasi suhu dapat dikurangkan. Pemanas ini direka khusus untuk keperluan pengeluaran semikonduktor, di mana had suhu yang dibenarkan adalah tetap, dan jumlah zarah yang terdapat di udara harus berada dalam lingkungan satu digit sahaja.
Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang mempunyai respons yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat. Dengan cara ini, kita dapat memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C. Keseragaman suhu ini dapat dipertahankan dari masa ke masa, sehingga dimensi-dimensi penting semasa proses litografi dapat dikekalkan dengan baik. Reka bentuk pemanas ini sesuai untuk digunakan di bilik bersih – struktur pemancar yang tertutup dan bahan-bahan yang digunakan tidak menghasilkan banyak gas, sehingga jumlah zarah di udara tetap rendah, walaupun berada dalam persekitaran kelas 1–100. Anda akan mendapat kebolehpercayaan 24/7 tanpa gangguan yang tidak dijangka. Selain itu, penggunaan tenaga juga lebih efisien berbanding pemanas konvensional, kerana kita tidak perlu memanaskan jisim yang besar.
Proses pemprosesan fotoresist bukanlah tentang “menghangatkan bahan tersebut”. Ia merupakan proses termal yang memerlukan ketepatan yang tinggi. Dengan pemanas ini, suhu dapat dinaikkan dengan cepat, kemudian dikekalkan pada tahap yang stabil semasa proses pembakaran, dan akhirnya suhu dapat diturunkan secara terkawal. Hasilnya ialah penghapusan pelarut yang konsisten, ketebalan lapisan yang stabil, serta kawalan dimensi yang tepat.
Anda tidak perlu memilih antara prestasi termal dan kawalan pencemaran. Keserasian dengan bilik bersih telah disertakan dalam reka bentuk ini, jadi prosesnya menjadi lebih efisien, pengulangan kerja berkurangan, dan hasil pengeluaran meningkat – tanpa perlu mengubah kaedah kimia atau masa prosesnya.
Beberapa perkara praktikal yang perlu dipertimbangkan sebelum memilih pemanas ini: Pemasangannya memerlukan penyesuaian geometri bilik pembakaran dan penyelarasan pemancar dengan laluan wafer. Jika anda ingin memasangnya semula, sedikit penyesuaian mungkin diperlukan. Pemanas ini hanya akan berfungsi dengan baik jika aliran udara, sistem pengudaraan, dan kebersihan reflektor dipantau dengan betul mengikut prosedur yang ditetapkan.
Pastikan ada litar kuasa khusus untuk pemanas ini, dan semak toleransi voltan di tapak tersebut terlebih dahulu. Penurunan voltan akan menjejaskan kestabilan suhu dan keseragamannya. Kami menyediakan antaramuka kawalan yang memudahkan integrasi pemanas ini dengan sistem lain.