Mengapa kita menggantikan penggunaan udara panas dengan gelombang inframerah dalam proses pemprosesan yang kompleks?
Fikirkan bagaimana cara kerja ketuhar konveksi. Udara dipanaskan terlebih dahulu, dan kemudian udara tersebutlah yang memanaskan makanan. Ada kelewatan dalam proses ini. Dalam dunia pemprosesan semikonduktor, kelewatan ini sangat merugikan. Ia merupakan pembaziran masa yang tidak boleh diterima.
Itulah sebabnya kita menggunakan lampu inframerah berkualiti tinggi (UHP). Dengan cara ini, kita dapat mengelakkan penggunaan udara sebagai perantara dalam proses pemanasan.
Perbezaan kelajuan antara kedua-duanya sangat besar. Memandangkan lampu inframerah menggunakan radiasi elektromagnetik, haba akan sampai ke wafer sebaik sahaja suis dihidupkan. Proses ini berlaku dengan cepat. Sementara sistem udara panas masih memerlukan beberapa minit untuk menstabilkan suhu, lampu UHP pula dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam masa beberapa saat sahaja.
Ia sangat cepat. Dan ini mengubah segalanya dalam proses kerja anda. Anda dapat memproses lebih banyak wafer setiap syif.
Sekarang, mari kita bincangkan aspek “kebersihan” di bilik bersih. Proses pengeluaran gas buangan merupakan masalah yang serius. Lampu biasa cenderung untuk melepaskan kotoran, tetapi lampu UHP menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi serta penutup khas. Tidak ada zarah-zarah yang terlepas. Tidak ada masalah yang tidak dijangka. Kita juga memastikan kepadatan tenaga yang tinggi agar keseluruhan sistem tidak memenuhi ruang lantai sepenuhnya.
Namun, ada satu perkara yang perlu diperhatikan: pastikan bekalan kuasa anda mencukupi. Lampu bertekanan tinggi ini memerlukan arus elektrik yang banyak. Jika transformer anda tidak mampu menanggung beban tersebut, voltan akan turun. Dan apabila voltan turun, keseragaman suhu akan terjejas.
Ia bukan sesuatu yang boleh dilakukan secara langsung tanpa perancangan. Perubahan dari sistem udara panas ke sistem inframerah memerlukan perancangan yang teliti. Gelombang inframerah bersifat berarah, jadi anda perlu memastikan zon pemanasan berada pada posisi yang tepat. Jika terdapat kesilapan walaupun hanya beberapa milimeter, ia akan menyebabkan zon sejuk dan perbezaan suhu pada wafer. Ia memerlukan keseimbangan yang tepat.
Nasihat saya? Jangan ganti semua komponen sekaligus. Mulakan dengan zon-zon yang memerlukan masa yang lebih lama untuk diproses. Pastikan profil suhu berada pada tahap yang diinginkan, kemudian barulah lanjutkan ke zon-zon lain.
Kelebihan sebenar bukanlah sekadar pada kepadatan tenaga, tetapi pada kecekapan. Anda akan menghabiskan masa yang lebih sedikit untuk mendapatkan hasil yang sama.