Mengapa kita beralih dari penggunaan udara panas ke teknologi inframerah dalam proses pengolahan yang kompleks
Coba bayangkan cara kerja oven konveksi. Udara dipanaskan terlebih dahulu, lalu udara tersebutlah yang memanaskan makanan. Ada waktu tunggu sebelum makanan benar-benar panas. Dalam dunia pemrosesan semikonduktor, waktu tunggu ini sangat merugikan, karena merupakan pemborosan waktu yang tidak bisa diterima.
Itulah mengapa kita menggunakan lampu inframerah berketajaman tinggi (UHP). Dengan cara ini, kita menghilangkan perantara, yaitu udara. Perbedaan kecepatannya sungguh luar biasa. Karena lampu inframerah menggunakan radiasi elektromagnetik, panasnya langsung sampai ke wafer begitu saklar dihidupkan. Prosesnya sangat cepat. Sementara sistem udara panas masih membutuhkan waktu beberapa menit untuk mencapai suhu yang diinginkan, lampu UHP sudah mencapai suhu target dalam hitungan detik.
Kecepatan ini sangat penting bagi proses produksi. Anda dapat memproses lebih banyak wafer dalam satu shift.
Sekarang, mari kita bicara tentang aspek “kebersihan” di ruang bersih. Proses pelepasan gas berbahaya merupakan masalah serius. Lampu biasa cenderung melepaskan kotoran, tetapi lampu UHP menggunakan kuarsa sintetis berkualitas tinggi dan segel khusus. Tidak ada partikel yang terlepas. Tidak ada kejutan yang mungkin terjadi. Kita juga menjaga densitas daya agar seluruh peralatan tidak memenuhi seluruh ruangan.
Namun, ada satu hal yang perlu diperhatikan: pastikan suplai dayanya cukup. Lampu berdensitas tinggi ini membutuhkan arus listrik yang besar. Jika trafo Anda tidak mampu menangani beban tersebut, maka tegangan akan turun. Dan ketika tegangan turun, keseragaman suhu akan terganggu.
Ini bukan situasi yang bisa diselesaikan dengan mudah. Beralih dari sistem udara panas ke sistem inframerah membutuhkan perencanaan yang matang. Sistem inframerah bersifat directional, sehingga Anda perlu memperhatikan penyebaran panas secara cermat. Jika ada kesalahan sebesar beberapa milimeter saja, maka akan tercipta titik-titik dingin dan perbedaan suhu di permukaan wafer. Ini membutuhkan keseimbangan yang tepat.
Saran saya? Jangan ganti semuanya sekaligus. Mulailah dengan zona-zona yang membutuhkan waktu pemrosesan yang lama. Pastikan profil termalnya sesuai dengan yang diinginkan, baru lanjutkan ke zona-zona lainnya.
Keuntungan sebenarnya bukan hanya pada besarnya daya yang digunakan, tetapi juga pada efisiensinya. Anda akan menghabiskan waktu yang jauh lebih sedikit untuk mendapatkan hasil yang sama.