In der Lithografieanlage reicht bereits eine Abweichung von 2°C während des Trocknungsprozesses des Fotolacks aus, um viele Produkte zu ruinieren. Wir haben den Halter für die Infrarotlampen überarbeitet, damit die Temperatur gleichmäßig bleibt – innerhalb von ±0,1°C über die gesamte Waferfläche hinweg. Denn in diesem Bereich hängt die Produktqualität von diesen kleinen Abweichungen ab.
Was wirklich wichtig ist:
Der Halter hält die Infrarotlampen in einer präzisen Position – dadurch bleiben die Ausrichtung der Lampen sowie die Brennweite konstant. Er ermöglicht außerdem eine schnelle thermische Reaktion mit minimalem Überschuss. Hochwertige Polymere und Metalloberflächen sorgen dafür, dass nur minimale Partikel entstehen – was wiederum die Bedingungen in Reinräumen der Klassen 1–100 gewährleistet. Das Ergebnis sind stabile Temperaturen beim Trocknen des Fotolacks, eine bessere Kontrolle über die Wafergröße sowie zuverlässige Prozessbedingungen.
Warum dieser Halter in der Waferverarbeitung unverzichtbar ist:
Die thermischen Bedingungen bleiben konstant – dadurch werden Nacharbeiten und Fehler im Fotolack vermieden. Der Halter hält die Lampen auch bei 24/7-Betrieb stabil, wodurch unplanmäßige Stillstände sowie Energieverluste durch erneute Erhitzungszyklen reduziert werden. Dadurch wird die Qualifizierung der Prozesse beschleunigt, die Wiederholgenauigkeit verbessert – und es kommt zu weniger Fehlern, die auf Abweichungen der Lampen oder deren falsche Ausrichtung zurückzuführen sind.
Praktische Hinweise:
Die Installation erfordert eine genaue Drehmomentanwendung sowie eine richtige Befestigung der Lampen. Bei einer falschen Anwendung kann die Temperatur um einige Zehntelgrade abweichen. Der Halter passt zu Standardmontageprofilen – doch bei älteren Anlagen kann ein spezieller Halter erforderlich sein. Regelmäßige Überprüfungen der Ausrichtung sind wichtig, um eine nahezu nullpartikelfreie Umgebung zu gewährleisten.