На етапі літографії процес висушування фотополімеру не є просто паузою – це скоріше засіб для контролю процесу. Якщо процес висушування не є однорідним, це призводить до варіацій у товщині шару фотополімеру, появи стоячих хвиль тощо. Ми розробили спеціальні лампи для висушування фотополімеру, які дозволяють усунути ці проблеми.
Сутністю цього процесу є точний термоконтроль безпосередньо на рівні платівки. Галогенні елементи короткохвильового та середньохвильового діапазону, у поєднанні з кварцовою оптикою та спеціальними відбивачами, забезпечують швидку та точну реакцію на зміни температури. На всій поверхні платівки температура підтримується на рівні ±0,1°C.
Що стосується умов приміщення, то вони мають відповідати стандартам класу 1–100. Цього досягається завдяки використанню матеріалів з низьким рівнем випаровування та спеціальному дизайну, який запобігає утворенню частинок під час роботи. У результаті температура висушування може контролюватися, а також записуватися для подальшого аналізу.
Виробництво напівпровідників ґрунтується на стабільності. Це забезпечує можливість повторюваних процесів, зменшення кількості відходів та необхідності повторної обробки продукції. Витрати на енергію також зменшуються, оскільки лампа швидко досягає заданої температури та підтримує її без перевищень, тож не витрачається зайва енергія. У великомасштабних заводах така стабільність допомагає зберігати ефективність виробництва, знижувати витрати на одну платівку та забезпечувати однорідність результатів обробки.
Одна з важливих умов – це досягнення однорідності температури на рівні ±0,1°C. Це можливо лише за умови тісної інтеграції лампи з контролером теплового процесу та стадією обробки платівки. Підлаштування потужності лампи під тепловий профіль обладнання є обов’язковим.
Час на налаштування системи є недовгим – достатньо лише налаштувати параметри, датчики та процедури висушування. Після налаштування система може працювати 24/7 без перерв, але саме це налаштування є частиною процесу встановлення обладнання.