Op de lithografieafdeling is de bakstap geen pauze, maar eerder een manier om de temperatuur te regelen. Als de warmtebehandeling niet uniform verloopt, heeft dat gevolgen voor de dikte van het materiaal, evenals voor de kwaliteit van het eindproduct. We hebben onze lampen zo ontworpen dat deze variabelen worden weggenomen.
Het belangrijkste aspect is de thermische controle recht op het oppervlak van de wafer. Halogeenelementen met kort- en middengolflengten, in combinatie met kwartsoptica en speciaal ontworpen reflectoren, zorgen voor een snelle en reproduceerbare thermische reactie. Op het hele oppervlak van de wafer blijft de temperatuur binnen ±0,1°C.
En wat betreft de zuiverheidsspecificaties? De apparaten zijn compatibel met klasse 1–100. Dit wordt bereikt door het gebruik van materialen die weinig gassen afgeven, en door een ontwerp dat ervoor zorgt dat er tijdens het gebruik geen deeltjes vrijkomen. Hierdoor kan de temperatuur van de fotorezistent nauwkeurig worden gemeten en geregeld, zodat deze overal op dezelfde manier kan worden ingesteld.
Bij de productie van halfgeleiders is stabiliteit cruciaal. Hierdoor wordt de kwaliteit van het product constant, dalen de kosten per wafer en wordt het aantal herwerkingen verminderd. Omdat de lamp snel de gewenste temperatuur bereikt en deze behoudt, wordt er minder energie verbruikt. In grote productiefaciliteiten zorgt deze stabiliteit er voor dat de productiesopties efficiënt werken, de kosten per wafer omlaag gaan en de kwaliteit constant blijft.
Eén praktisch punt: om een uniformiteit van ±0,1°C te bereiken, is nauwe samenwerking tussen de controller van de hitteplaat en de waferstaging nodig. Het is dus essentieel om de uitgangssterkte van de lamp aan te passen aan het thermische profiel van de apparatuur.
Er zal een korte tijd nodig zijn om de instellingen, sensoren en bakprocedures af te stemmen. Eenmaal gekalibreerd, werkt het systeem 24/7 zonder onverwachte stilstanden. Maar deze eerste configuratie maakt deel uit van de installatie.