Di bilik pengeringan wafer, perubahan suhu semasa proses pengeringan atau adanya kawasan sejuk di dalam bilik pengeringan akan mengurangkan keberkesanan sistem pemanasan yang digunakan. Kualiti produk akan menurun sebelum wafer tersebut keluar dari bilik pembersihan. Kami telah mereka bentuk tiub pemanas jenis kuarsa untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku – dengan mengekalkan suhu pada tahap yang diperlukan oleh proses tersebut, bukan pada suhu yang ditentukan oleh tiub pemanas itu sendiri.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Tiub pemanas ini menggunakan gelombang inframerah jarak dekat melalui kuarsa berkualiti tinggi, sehingga membolehkan peningkatan suhu yang cepat dengan inersia termal yang rendah. Anda boleh mengharapkan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C sepanjang panjang tiub tersebut, serta profil suhu yang konsisten dari suhu 150°C hingga 350°C. Dalam persekitaran kelas 1–100, bahan-bahan dan komponen penyegel dipilih agar jumlah zarah debu dapat dikurangkan – tiada masalah berkaitan pelepasan gas atau kontaminasi filem. Ketumpatan tenaga pemanasan disesuaikan agar sesuai dengan zon-zon tertentu dalam ketuhar, dan sambungan antara komponen-komponen tersebut direka untuk menangani beban kerja yang tinggi dan melindungi daripada kesan ESD.
Inilah sebabnya mengapa sistem ini mampu berfungsi dengan baik dalam keadaan sebenar. Proses pengeringan dan pembersihan wafer memerlukan suhu yang seragam; suhu yang tidak seragam akan menyebabkan kesan air pada permukaan wafer dan membawa kepada kecacatan. Dalam proses litografi, proses pengeringan fotoresist mempengaruhi dimensi penting wafer – tiub pemanas ini memastikan keseluruhan wafer berada dalam spesifikasi yang ditetapkan, sekali gus mengurangkan pembaziran bahan dan waktu pembaikan. Untuk proses pembungkusan, proses pengeringan dan pengisian bahan perlu dilakukan secara konsisten; tiub pemanas ini membantu mencapai hal tersebut tanpa menyebabkan retakan pada permukaan wafer. Hasilnya adalah kurangnya variasi parameter, penggunaan tenaga yang lebih rendah untuk setiap wafer, serta jarak masa yang lebih lama antara kerja-kerja penyelenggaraan.
Beberapa nota praktikal:
Kuarsa tidak tahan terhadap gegaran mekanikal atau tekanan termal, jadi komponen ketuhar perlu menyokong tiub pemanas tanpa memberi tekanan yang berlebihan. Penyelarasan suhu juga perlu dikawal dengan baik. Pastikan jarak antara komponen-komponen tersebut sesuai dengan geometri bilik pengeringan, dan pastikan voltan serta sistem penyejukan sesuai dengan platform ketuhar anda. Lakukan pemeriksaan berkala pada komponen penyegel dan sambungan antara komponen-komponen tersebut – pemeriksaan rutin ini akan membantu memastikan operasi ketuhar berjalan lancar dan kualiti wafer tetap stabil.