Wafer on Warm IR Heater Supply Co.

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Sat, 25 Jul 2026 02:10:24 +0800

Hệ thống sưởi bằng tia hồng ngoại so với hệ thống sưởi bằng không khí nóng: Hãy ngừng chờ đợi cho đến khi các tấm wafer đạt đủ nhiệt độ đi.
Tôi vẫn thấy rất nhiều nhà máy sản xuất linh kiện bán dẫn vẫn sử dụng phương pháp sưởi bằng không khí nóng để làm nóng các tấm wafer. Đó là phương pháp cũ kỹ, và thực sự thì nó rất tốn thời gian.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Thu, 23 Jul 2026 09:29:59 +0800

Ngừng lãng phí nhiệt lượng: Cách tốt hơn để làm nóng các tấm silic
Việc làm nóng các tấm silic có vẻ đơn giản thôi, nhưng bất kỳ kỹ sư nào từng làm việc trực tiếp trong môi trường sản xuất đều biết rằng việc kiểm soát nhiệt lượng mới là thách thức thực sự.

Khi sử dụng những thiết bị sưởi ấm thông thường, năng lượng không chỉ tác động lên tấm silic mà còn tác động lên các bức tường bên trong buồng chân không. Điều này gây ra nhiều vấn đề, chẳng hạn như làm biến dạng khung máy, hoặc tổn thương cho người vận hành khi họ mở cửa máy. Đây là điều rất đáng lo ngại, và thực ra có thể tránh được.

Máy sấy tấm cảm biến MEMS

Sat, 18 Jul 2026 01:52:03 +0800

Làm khô các wafer MEMS bằng tia hồng ngoại
Khi làm khô các wafer cảm biến MEMS, người ta cần phải tìm được sự cân bằng khó khăn giữa việc loại bỏ hơi ẩm và tránh để lại bất kỳ chất cặn nào. Đồng thời, không được gây tổn hại cho các linh kiện điện tử trên wafer.

Đó là lý do tại sao chúng ta sử dụng phương pháp sấy bằng tia hồng ngoại. Thay vì sử dụng hóa chất hoặc làm nóng không khí, tia hồng ngoại tác động trực tiếp lên các phân tử nước. Đây là phương pháp sạch sẽ hơn, và cũng phù hợp với xu hướng sử dụng các tiêu chuẩn thân thiện với môi trường, không chứa chì trong quy trình sản xuất.

Bộ phản xạ ánh sáng dành cho đèn sấy wafer

Fri, 17 Jul 2026 01:46:20 +0800

Ngăn không cho các bóng đèn phát ra nhiệt làm nóng toàn bộ thiết bị
Nếu ánh sáng hồng ngoại từ các bóng đèn truyền vào thân máy, thì bạn đang gặp vấn đề về thiết kế. Đơn giản thôi. Khi sử dụng các bóng đèn phát ra năng lượng cao, bức xạ này không chỉ tập trung trên tấm wafer mà còn lan rộng ra khắp nơi. Nếu bạn không kiểm soát được hướng lan truyền của nhiệt, các bức tường bên trong máy sẽ hấp thụ hết lượng nhiệt đó. Chẳng mấy chốc, vỏ máy sẽ trở nên quá nóng đến mức có thể gây bỏng người; các quạt làm mát cũng phải hoạt động hết công suất để giảm nhiệt.

Cảm biến hồng ngoại độ chính xác dành cho wafer

Sun, 12 Jul 2026 05:24:26 +0800

Hãy ngừng việc sử dụng các bóng đèn IR thông thường để làm nóng buồng chân không đi.
Bất kỳ ai từng làm việc trong môi trường sản xuất bán tự động đều hiểu rõ những khó khăn này. Bạn cần làm nóng tấm wafer, nhưng lại không muốn làm hỏng toàn bộ thiết bị trong quá trình đó.

Vấn đề là: các bóng đèn IR thông thường thực chất chỉ là những bóng đèn thông thường được tăng cường công suất. Chúng phát ra nhiệt ở mọi hướng. Một lượng lớn nhiệt lượng này không chiếu vào tấm wafer mà lại đập trực tiếp vào các bức tường bên trong buồng chân không. Khi các bức tường này hấp thụ hết lượng nhiệt đó, mọi thứ sẽ trở nên rối ren. Các chi tiết của thiết bị sẽ bị hư hỏng, và người làm việc gần máy cũng sẽ gặp nguy cơ an toàn.

Phụ tùng thay thế dùng trong quy trình xử lý wafer mua trực tuyến

Wed, 08 Jul 2026 05:09:58 +0800

Giới thiệu
Hãy cùng nói về một vấn đề thực sự đáng lo ngại: đó chính là chi phí cao ngất ngưởng của các linh kiện bán dẫn nhập khẩu. Cụ thể hơn, đó là những bóng đèn sưởi tử ngoại được sử dụng trong quy trình xử lý wafer.
Câu hỏi mà mọi người đều quan tâm là: Liệu chúng ta có thể tìm được giải pháp thay thế bằng sản phẩm trong nước, mà không cần phải chỉnh sửa gì cả? Chỉ cần cắm vào và sử dụng ngay thôi.
Tin tốt là chúng tôi đã tạo ra một sản phẩm như vậy.

Mô đun sấy wafer kích thước 200mm

Mon, 29 Jun 2026 02:22:43 +0800

Trên dây chuyền sản xuất có kích thước 200mm, việc sấy khô sau khi làm sạch không chỉ là giai đoạn chờ đợi mà còn là bước quan trọng để xác định liệu lớp phủ photoresist tiếp theo có được áp dụng đúng theo tiêu chuẩn hay không. Chính sức căng bề mặt, lượng dung môi còn sót lại và các tạp chất vi mô mới là yếu tố quyết định điều này.

Những yếu tố quan trọng trong quá trình sấy khô
Mô-đun sấy khô dành cho wafer kích thước 200mm của chúng tôi được thiết kế sao cho có thể duy trì nhiệt độ ổn định. Khu vực sấy giữ được độ ổn định nhiệt độ ở mức ±0,1°C trên toàn bộ bề mặt wafer. Nhờ đó, nhiệt độ sấy có thể được kiểm soát chính xác, từ đó giúp lớp phủ photoresist hoạt động ổn định. Buồng sấy và đường dẫn khí phù hợp với tiêu chuẩn của phòng sạch cấp độ 1–100. Hệ thống này được thiết kế sao cho không gây ra bất kỳ tạp chất nào trong quá trình hoạt động. Chúng tôi đo lường hiệu suất của hệ thống dựa trên các thông số như nhiệt độ, tốc độ thay đổi nhiệt độ, và chu kỳ hoạt động.

Ốc đựng đèn hồng ngoại dành cho công cụ xử lý wafer

Wed, 17 Jun 2026 11:09:47 +0800

Trên bề mặt wafer, việc kiểm soát nhiệt độ trong quá trình sấy phim ảnh là điều cực kỳ quan trọng – đó chính là yếu tố quyết định xem sản phẩm có thể được sử dụng hay bị loại bỏ. Chỉ cần có sự chênh lệch nhiệt độ 2°C trong quá trình sấy, các kích thước quan trọng của wafer sẽ bị thay đổi, dẫn đến hiện tượng xuất hiện các vết bẩn trên bề mặt wafer. Chúng tôi thiết kế các bộ đèn hồng ngoại để đảm bảo tính ổn định nhiệt độ ở mức cao nhất, đúng vào lúc mà các công cụ xử lý wafer cần nó nhất.