Đèn sấy hóa chất phơi ảnh đồng nhất

Tue, 23 Jun 2026 12:42:48 +0800

Trong quy trình in ấn bằng phương pháp litography, bước nung khô không phải là một giai đoạn tạm dừng, mà chính là yếu tố quan trọng để kiểm soát chất lượng sản phẩm. Nếu việc nung khô diễn ra không đều, điều đó sẽ dẫn đến sự biến đổi về độ dày của lớp phim bảo vệ, xuất hiện các sóng dao động, và giảm tỷ lệ sản phẩm thành công. Chúng tôi đã thiết kế các bóng đèn dùng để nung khô sao cho có thể loại bỏ những yếu tố gây biến động này.

Đèn nướng photoresist

Sun, 07 Jun 2026 01:06:26 +0800

Trên nền lithography, quá trình nướng mềm và nướng cứng không chỉ là các bước—chúng là những cái bắt tay nhiệt. Sự trôi lệch nửa độ làm thay đổi độ lệch CD, và một điểm nóng có thể in ra một khiếm khuyết theo wafer dẫn đến tổn thất năng suất. Chúng tôi đã chế tạo đèn nướng photoresist của mình để giữ ngân sách nhiệt ở mức mà quy trình cần.

Cốt lõi là hồng ngoại chọn lọc theo bước sóng, được cung cấp bởi các bộ phát quartz sóng ngắn và sóng trung được điều chỉnh theo khả năng hấp thụ của photoresist. Điều này có nghĩa là gia nhiệt nhanh chóng, trực tiếp đến photoresist với độ đồng nhất ở mức wafer là ±0.1°C trên bề mặt nướng. Độ lặp lại nhiệt độ đạt ±0.2°C từ lô này sang lô khác, vì vậy cùng một đặc tính nhiệt được áp dụng cho mọi wafer.

Nướng on Warm IR Heater Supply Co.

Đèn sấy hóa chất phơi ảnh đồng nhất

Đèn nướng photoresist