Litografide, foto direncin ısıtılması sırasında meydana gelen 2°C’lik bir değişiklik bile büyük kayıplara neden olabilir. Bu yüzden kızılötesi lambaları, wafer üzerindeki sıcaklık farklarını ±0,1°C içinde tutacak şekilde yeniden tasarladık. Çünkü bu alanda verimlilik, bu tür küçük sıcaklık farklarına bağlıdır.
Önemli olan şeyler:
Bu klip, kızılötesi lambaları sabit bir pozisyonda tutarak kuvars ile lamba arasındaki hizalamayı ve odak mesafesini korur. Kısa ve orta dalga boylarını da kapsar; böylece minimum hata ile hızlı bir ısı tepkisi elde edilir. Temiz oda koşullarına uygun polimerler ve metal kaplamalar sayesinde parçacık üretimi en aza indirilir ve böylece Class 1–100 sınıfı temiz odalarda kullanılabilir. Bunun sonucunda istikrarlı ısıtma sıcaklıkları, daha iyi kontrol edilebilir CD değerleri ve güvenilir hat genişlikleri elde edilir.
Neden wafer işlemede kullanılır?
Isısal parametreler değişmez. Bu klip, ısıtma sürecini sabit tutarak yeniden işlem gereksinimlerini ve foto direnç kusurlarını azaltır. Lamba dizisini 24/7 çalışma koşullarında bile sabit tutar; böylece planlanmamış duruş süreleri ve yeniden ısıtma işlemlerinden kaynaklanan enerji tüketimi azalır. Daha hızlı kalibrasyon, daha iyi tekrarlanabilirlik ve lamba kaymalarından veya hizalama sorunlarından kaynaklanan hataların azalması sağlanır.
Kullanım notları:
Montaj işlemi, doğru tork değerleri ve lambaların doğru şekilde yerleştirilmesine bağlıdır; eğer tork değerleri doğru ayarlanmazsa, ısısal profil birkaç ondalık derece kadar değişebilir. Klip standart montaj raylarına uyar; ancak eski sistemler için özel bir montaj aparatı gerekebilir. Düzenli olarak hizalama kontrolleri yapılmalı ve temiz oda koşulları korunmalıdır.