Лампа для высушивания фотополимера для обеспечения однородности

Tue, 23 Jun 2026 12:42:48 +0800

На этапе литографии процесс высушивания фотополимера не является просто периодом ожидания – это важный элемент контроля. Если процесс высушивания не происходит однородно, это приводит к изменениям толщины пленки, возникновению стоячих волн и снижению качества продукции. Мы разработали специальные лампы для высушивания фотополимера, чтобы устранить эти проблемы.

Суть решения заключается в точном контроле температуры непосредственно на поверхности пластины. Галогеновые элементы короткой и средней длины волны, в сочетании с кварцевыми оптическими элементами и специальными отражателями, обеспечивают быстрый и предсказуемый контроль температуры. На всей поверхности пластины сохраняется однородность температуры в пределах ±0,1°C.

Лампа для запекания фоторезиста

Sun, 07 Jun 2026 01:06:26 +0800

На литографическом этаже мягкое и жесткое запекание — это не просто этапы, а термические рукопожатия. Полу-градусное смещение изменяет смещение CD, а горячая точка может напечатать дефект, который следует за вафером прямо в убытки по выходу. Мы разработали наши лампы для запекания фотополитопласта, чтобы поддерживать тепловой бюджет там, где это необходимо в процессе.

Ядро лампы — это селективный по длине волны инфракрасный свет, обеспечиваемый кварцевыми излучателями короткой и средней волны, соответствующими поглощению фотополитопласта. Это означает быстрое, непосредственное нагревание фотополитопласта с однородностью на уровне вафера ±0.1°C по всей поверхности запекания. Повторяемость температуры составляет ±0.2°C от партии к партии, так что один и тот же тепловой профиль воздействует на каждый вафер.

Фоторезист on Warm IR Heater Supply Co.

Лампа для высушивания фотополимера для обеспечения однородности

Лампа для запекания фоторезиста