Сушка on Warm IR Heater Supply Co.

Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS

Sat, 18 Jul 2026 01:52:03 +0800

Сушка пластин MEMS с использованием инфракрасного излучения
При сушке пластин датчиков MEMS необходимо соблюдать тонкий баланс. Необходимо устранить влагу, но при этом не оставлять никаких следов, а также избегать повреждения самого оборудования.

Поэтому мы используем инфракрасное излучение для сушки. Вместо использования химикатов или нагрева воздуха, инфракрасные лучи воздействуют непосредственно на молекулы воды. Это более экологичный способ, соответствующий требованиям к использованию безопасных, безсвинцовых материалов в производстве.

Как это работает
Представьте себе обычную конвекционную печь – чтобы нагреть всю камеру, требуется много времени. С инфракрасным излучением мы можем нагревать только поверхность пластины. Мы используем коротковолновое или средневолновое излучение, что позволяет энергии проникать сквозь тонкие слои материала и заставлять жидкости испаряться почти мгновенно. Самое прекрасное здесь то, что не нужно ждать час, пока печь нагреется – достаточно просто включить её.

Энергетический аудит для сушильных установок

Thu, 16 Jul 2026 01:17:17 +0800

Прекратите нагревать стены оборудования: лучший способ сушки пластин
Если вы когда-либо занимались управлением процессом сушки в производственных помещениях, вы понимаете всю сложность этой задачи. Вы пытаетесь высушить пластину, но половина энергии просто теряется в корпусе оборудования. Это раздражает. В итоге внутренние стенки оборудования перегреваются, а само оборудование становится слишком горячим для прикосновения. Это настоящий кошмар для тех, кто должен его обслуживать.

Мы нашли решение этой проблемы, используя направленное инфракрасное нагревание.
Секрет заключается в том, куда именно направляется тепло.
Большинство нагревателей работают как лампочки: они излучают энергию во все стороны. В ограниченном пространстве производственного помещения эта потерянная энергия не имеет куда уйти, кроме как в стены. Мы используем лампы с коротковолновым инфракрасным излучением, которые с помощью отражателей фокусируют тепло в одном направлении.

Модуль сушки вафер 200 мм

Mon, 29 Jun 2026 02:22:42 +0800

На линиях обработки wafer размером 200 мм процесс сушки после очистки не является просто временем простоя. Именно в этой стадии поверхностное натяжение, остатки растворителей и микроудаления определяют, будет ли следующий слой фоторезиста нанесен правильно или же процесс литографии будет сорван.

Что на самом деле имеет значение Модуль сушки wafer размером 200 мм разработан с учетом стабильности температурного режима. В зоне нагрева температура сохраняется на уровне ±0,1°C по всей площади wafer. Это обеспечивает стабильную работу фоторезиста. Камера и каналы подачи газов соответствуют требованиям чистых помещений класса 1–100. Система спроектирована таким образом, чтобы при стабильной работе не возникало никаких проблем с частицами. Мы измеряем эффективность системы так: одинаковая температура, одинаковая скорость нагрева, цикл за циклом.