<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Печение on Warm IR Heater Supply Co.</title>
		<link>http://warm-ir-heater-supply.com/ru/tags/%D0%BF%D0%B5%D1%87%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/</link>
		<description>Recent content in Печение on Warm IR Heater Supply Co.</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 07 Jun 2026 01:06:26 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-supply.com/ru/tags/%D0%BF%D0%B5%D1%87%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для запекания фоторезиста</title>
				<link>http://warm-ir-heater-supply.com/ru/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 01:06:26 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-supply.com/ru/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-supply.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Лампа для запекания фоторезиста&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На литографическом этаже мягкое и жесткое запекание — это не просто этапы, а термические рукопожатия. Полу-градусное смещение изменяет смещение CD, а горячая точка может напечатать дефект, который следует за вафером прямо в убытки по выходу. Мы разработали наши лампы для запекания фотополитопласта, чтобы поддерживать тепловой бюджет там, где это необходимо в процессе.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ядро лампы — это селективный по длине волны инфракрасный свет, обеспечиваемый кварцевыми излучателями короткой и средней волны, соответствующими поглощению фотополитопласта. Это означает быстрое, непосредственное нагревание фотополитопласта с однородностью на уровне вафера ±0.1°C по всей поверхности запекания. Повторяемость температуры составляет ±0.2°C от партии к партии, так что один и тот же тепловой профиль воздействует на каждый вафер.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
