Secador FOUP (Front Opening Unified Pod)

Sun, 28 Jun 2026 01:10:11 +0800

Na linha de 300 mm, basta que um único FOUP saia da área de secagem com marcas de água visíveis ao microscópio para que todo o lote seja descartado. Com o método de secagem convencional, você está, basicamente, apostando nos gradientes de temperatura ao longo da camada de wafers. Esse tipo de risco não é aceitável quando o processo é realizado em escalas de nanômetros.

O que realmente importa Esse secador de FOUP consegue alcançar uma uniformidade térmica de ±0,1°C no nível dos wafers – medida no próprio plano do wafer, e não na superfície do aquecedor. Ele utiliza emissores de infravermelho de onda curta e um sistema de fluxo de ar sem quartzo, evitando assim a adição de partículas enquanto se tenta remover a umidade. Os selos mecânicos e sistemas de filtragem são projetados para manter a sala limpa na classe 1–100. O modelo térmico específico para FOUP compensa as variações de carga, garantindo que os processos de secagem permaneçam repetíveis, sem excessos.

Abertura on Warm IR Heater Supply Co.

Secador FOUP (Front Opening Unified Pod)