Tiub pemanas kuarsa untuk ketuhar pembuatan kaca

Fri, 03 Jul 2026 02:45:42 +0800

Di bilik pengeringan wafer, perubahan suhu semasa proses pengeringan atau adanya kawasan sejuk di dalam bilik pengeringan akan mengurangkan keberkesanan sistem pemanasan yang digunakan. Kualiti produk akan menurun sebelum wafer tersebut keluar dari bilik pembersihan. Kami telah mereka bentuk tiub pemanas jenis kuarsa untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku – dengan mengekalkan suhu pada tahap yang diperlukan oleh proses tersebut, bukan pada suhu yang ditentukan oleh tiub pemanas itu sendiri.

Apa yang penting dari segi teknikal:
Tiub pemanas ini menggunakan gelombang inframerah jarak dekat melalui kuarsa berkualiti tinggi, sehingga membolehkan peningkatan suhu yang cepat dengan inersia termal yang rendah. Anda boleh mengharapkan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C sepanjang panjang tiub tersebut, serta profil suhu yang konsisten dari suhu 150°C hingga 350°C. Dalam persekitaran kelas 1–100, bahan-bahan dan komponen penyegel dipilih agar jumlah zarah debu dapat dikurangkan – tiada masalah berkaitan pelepasan gas atau kontaminasi filem. Ketumpatan tenaga pemanasan disesuaikan agar sesuai dengan zon-zon tertentu dalam ketuhar, dan sambungan antara komponen-komponen tersebut direka untuk menangani beban kerja yang tinggi dan melindungi daripada kesan ESD.

Pemanas inframerah untuk ketuhar bilik bersih

Thu, 02 Jul 2026 02:43:55 +0800

Di bilik bersih tersebut, perubahan suhu sebanyak 1.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan profil fotoresist yang sepatutnya memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Oleh itu, kami mencipta pemanas inframerah khusus untuk bilik bersih ini, agar variasi suhu dapat dikurangkan. Pemanas ini direka khusus untuk keperluan pengeluaran semikonduktor, di mana had suhu yang dibenarkan adalah tetap, dan jumlah zarah yang terdapat di udara harus berada dalam lingkungan satu digit sahaja.

Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang mempunyai respons yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat. Dengan cara ini, kita dapat memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C. Keseragaman suhu ini dapat dipertahankan dari masa ke masa, sehingga dimensi-dimensi penting semasa proses litografi dapat dikekalkan dengan baik. Reka bentuk pemanas ini sesuai untuk digunakan di bilik bersih – struktur pemancar yang tertutup dan bahan-bahan yang digunakan tidak menghasilkan banyak gas, sehingga jumlah zarah di udara tetap rendah, walaupun berada dalam persekitaran kelas 1–100. Anda akan mendapat kebolehpercayaan 24/7 tanpa gangguan yang tidak dijangka. Selain itu, penggunaan tenaga juga lebih efisien berbanding pemanas konvensional, kerana kita tidak perlu memanaskan jisim yang besar.

Pembakar Roti on Warm IR Heater Supply Co.

Tiub pemanas kuarsa untuk ketuhar pembuatan kaca

Pemanas inframerah untuk ketuhar bilik bersih