Bersih on Warm IR Heater Supply Co.

Pembaruan peralatan bilik bersih di fasiliti pembuatan

Tue, 14 Jul 2026 12:07:21 +0800

Hentikan pembaziran tenaga di fasiliti pengeluaran wafer

Sejujurnya, pembaziran tenaga di fasiliti pengeluaran wafer bukan sekadar masalah kewangan semata-mata. Ia juga merupakan risiko pencemaran.

Apabila kita menggunakan unsur pemanas yang berkuasa tinggi, sebahagian besar tenaga inframerah tersebut akan hilang begitu sahaja. Tenaga tersebut akan tersebar ke luar dan hilang ke dalam ruang kosong. Kita boleh atasi masalah ini dengan menggunakan reflektor yang dilapisi emas. Dengan melapiskan dinding bilik pemprosesan dengan filem emas yang berkualiti tinggi, kita dapat mengarahkan semula semua haba tersebut ke atas wafer.

Lampu inframerah untuk meja di bilik bersih

Sun, 12 Jul 2026 05:29:28 +0800

Mengapa kita menggunakan lampu IR di bilik bersih

Dalam proses pengeringan dan pengerasan bahan di bilik bersih, ketuhar konvensional biasanya tidak mencukupi. Terutamanya sekarang, di mana semua pihak berusaha untuk menggunakan bahan-bahan yang bebas plumbum dan mesra alam. Ia bukan sekadar soal menggantikan bahan kimia yang digunakan, tetapi juga cara untuk memanaskan bahan tersebut dengan efektif.

IR berbanding udara panas

Bayangkan ketuhar biasa. Sebenarnya, ia hanya memanaskan udara di dalam kotak tersebut serta dinding logamnya, sebelum haba sampai ke permukaan bahan yang ingin diproses. Ini merupakan pembaziran masa dan tenaga.

Pemanas inframerah untuk ketuhar bilik bersih

Thu, 02 Jul 2026 02:43:55 +0800

Di bilik bersih tersebut, perubahan suhu sebanyak 1.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan profil fotoresist yang sepatutnya memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Oleh itu, kami mencipta pemanas inframerah khusus untuk bilik bersih ini, agar variasi suhu dapat dikurangkan. Pemanas ini direka khusus untuk keperluan pengeluaran semikonduktor, di mana had suhu yang dibenarkan adalah tetap, dan jumlah zarah yang terdapat di udara harus berada dalam lingkungan satu digit sahaja.

Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek yang mempunyai respons yang cepat serta kawalan spektrum yang tepat. Dengan cara ini, kita dapat memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C. Keseragaman suhu ini dapat dipertahankan dari masa ke masa, sehingga dimensi-dimensi penting semasa proses litografi dapat dikekalkan dengan baik. Reka bentuk pemanas ini sesuai untuk digunakan di bilik bersih – struktur pemancar yang tertutup dan bahan-bahan yang digunakan tidak menghasilkan banyak gas, sehingga jumlah zarah di udara tetap rendah, walaupun berada dalam persekitaran kelas 1–100. Anda akan mendapat kebolehpercayaan 24/7 tanpa gangguan yang tidak dijangka. Selain itu, penggunaan tenaga juga lebih efisien berbanding pemanas konvensional, kerana kita tidak perlu memanaskan jisim yang besar.