Pada lini litografi, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan bahan fotoresisten sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan proses pengeluaran. Kami telah mengubah reka bentuk klip lampu inframerah agar suhu dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh permukaan wafer. Dalam bidang ini, kualiti pengeluaran bergantung pada ketepatan pengawalan suhu tersebut.
Apa yang penting
Klip ini memastikan posisi lampu inframerah tetap stabil, sehingga penyesuaian antara kuarz dan elemen pemancar serta jarak fokal kekal konsisten. Ia juga sesuai untuk gelombang pendek dan sederhana, sekaligus memberikan respons termal yang cepat dengan variasi suhu yang minimum. Bahan polimer dan permukaan logam yang digunakan sesuai untuk bilik bersih, sehingga jumlah zarah yang dihasilkan sangat sedikit. Kelebihannya ialah suhu pemanasan yang stabil, kawalan ketepatan yang lebih baik, serta lebar garis yang boleh diharapkan.
Mengapa ia penting dalam proses pengolahan wafer
Perubahan suhu yang berlaku semasa proses pemanasan boleh menyebabkan kerosakan pada bahan fotoresisten. Klip ini memastikan suhu tetap stabil, sekali gus mengurangkan keperluan untuk melakukan proses pembaikan. Ia juga memastikan posisi lampu tetap stabil sepanjang masa, sekaligus mengurangkan masa henti yang tidak dijangka serta penggunaan tenaga yang berlebihan. Dengan ini, proses pengeluaran menjadi lebih efisien, dengan hasil yang lebih konsisten.
Catatan lapangan
Pemasangan klip ini memerlukan ketegangan yang tepat dan penempatan lampu yang betul. Jika ketegangan tidak betul, suhu boleh berubah sebanyak beberapa persepuluh darjah. Klip ini sesuai untuk landasan pemasangan standard, namun untuk sistem lama mungkin diperlukan alat khas. Lakukan pemeriksaan penyesuaian secara berkala, dan pastikan segala proses dilakukan dalam keadaan bilik bersih, agar kualiti produk tetap terjaga.