Hentikan Penggunaan Pemanas Dinding: Cara Lebih Baik untuk Mengeringkan Wafer
Jika anda pernah terlibat dalam proses pengeringan wafer di fasiliti pembuatan semikonduktor, pasti anda tahu betapa sukarnya tugas tersebut. Anda cuba mengeringkan wafer tersebut, tetapi separuh daripada tenaga yang digunakan sebenarnya disia-siakan kerana haba tersebut masuk ke dalam badan mesin itu sendiri. Ini sangat menjengkelkan. Akibatnya, dinding dalaman mesin menjadi terlalu panas sehingga sukar untuk disentuh. Ini merupakan masalah besar bagi mereka yang bertanggungjawab untuk menyelenggara mesin tersebut.
Kami telah menemukan cara untuk mengatasi masalah ini dengan menggunakan pemanasan inframerah berarah.
Kuncinya adalah di mana haba tersebut dialirkan.
Kebanyakan pemanas berfungsi seperti mentol lampu; ia memancarkan haba ke semua arah. Di fasiliti yang sempit, haba yang terbuang ini tiada tempat lain untuk pergi selain ke dinding. Kami menggunakan lampu inframerah gelombang pendek yang dilengkapi dengan reflektor, yang berfungsi seperti sumber cahaya. Dengan cara ini, haba dapat difokuskan ke titik tertentu sahaja.
Hasilnya? Haba hanya sampai ke sasaran yang diinginkan, manakala bahagian lain tetap sejuk.
Namun, ada sedikit kompromi yang perlu dipertimbangkan.
Kelebihannya ialah kelajuan proses pengeringan. Anda tidak perlu menunggu selama-lamanya agar seluruh ruangan mesin menjadi panas. Foton-foton haba akan sampai ke permukaan wafer dengan cepat. Ia sangat cepat. Lagipun, kerana kami menggunakan tenaga yang tinggi, ruang yang diperlukan untuk mesin ini juga lebih kecil.
Tetapi perlu diingat bahawa anda perlu memastikan sistem penyejukan berfungsi dengan baik. Walaupun dinding tetap sejuk, komponen lampu itu sendiri akan menjadi sangat panas. Jika aliran udara tidak dikawal dengan betul, komponen elektrik boleh rosak atau sensor suhu boleh terjejas.
Mengapa perlu berusaha?
Menghilangkan kesan “dinding panas” ini bukan saja dapat menjimatkan kos tenaga, tetapi juga menjadikan persekitaran kerja lebih selamat. Tiada siapa yang ingin terbakar semasa proses pengeringan wafer atau semasa pemeriksaan rutin. Selain itu, suhu pada wafer akan menjadi lebih konsisten, sekali gus mengurangkan risiko wafer menjadi rosak akibat perubahan suhu yang drastik.
Kami membina alat ini agar mudah digunakan sebagai pengganti pemanas biasa. Cukup gantikan pemanas lama dengan alat ini, sambungkannya ke kawalan PID untuk mengekalkan suhu yang sesuai, dan selesai. Anda tidak perlu lagi membuang tenaga pada dinding, dan suhu mesin juga akan tetap stabil, sehingga para pekerja tidak perlu risau akan bahaya kebakaran.