<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>와이퍼 on Warm IR Heater Supply Co.</title>
		<link>http://warm-ir-heater-supply.com/ko/tags/%EC%99%80%EC%9D%B4%ED%8D%BC/</link>
		<description>Recent content in 와이퍼 on Warm IR Heater Supply Co.</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ko</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 02:22:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-supply.com/ko/tags/%EC%99%80%EC%9D%B4%ED%8D%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>와이퍼 건조 모듈 200mm</title>
				<link>http://warm-ir-heater-supply.com/ko/posts/wafer-drying-module-200mm/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 02:22:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-supply.com/ko/posts/wafer-drying-module-200mm/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-supply.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;와이퍼 건조 모듈 200mm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;200mm 공정에서는 세척 후의 건조 과정이 단순한 대기 시간에 불과한 것이 아닙니다. 이때 표면 장력, 남아 있는 용매, 그리고 미세 오염물들이 다음 단계의 포토레지스트 코팅이 정상적으로 이루어질지, 아니면 문제가 생길지를 결정합니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>웨이퍼 처리용 적외선 램프 소켓</title>
				<link>http://warm-ir-heater-supply.com/ko/posts/infrared-lamp-socket-for-wafer-tool/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:09:47 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-supply.com/ko/posts/infrared-lamp-socket-for-wafer-tool/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-supply.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;웨이퍼 처리용 적외선 램프 소켓&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;웨이퍼 처리 과정에서 포토레지스트의 건조 과정은 선택적인 것이 아닙니다. 이는 양질의 제품을 생산할지, 아니면 폐기물만 남길지를 결정하는 중요한 요소입니다. 소프트 베이크나 하드 베이크 과정에서 2°C만큼의 온도 변동이 있어도 치명적인 결과가 발생할 수 있습니다. 우리는 바로 이러한 상황을 고려하여 적외선 램프 소켓을 설계했습니다. 즉, 웨이퍼 처리 과정에서 가장 중요한 열 안정성을 확보하기 위함입니다.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
