Lampada per essiccazione del fotoresist a uniformità

Tue, 23 Jun 2026 12:42:48 +0800

Nella fase di litografia, la fase di essiccazione non rappresenta una pausa nel processo produttivo, bensì un elemento fondamentale per il controllo della qualità del prodotto finale. Se l’essiccazione non avviene in modo uniforme, ne conseguono variazioni di spessore dei materiali utilizzati, onde stazionarie e problemi legati alla resa del prodotto. Abbiamo progettato le lampade per l’essiccazione del fotorestante apposta per eliminare questi problemi.

Il cuore del sistema è il controllo termico direttamente sul piano del wafer. Gli elementi a onde corte e medie, abbinati a ottiche in quarzo e riflettori specificamente progettati, permettono una risposta termica rapida e ripetibile. Riusciamo così a mantenere un livello di uniformità entro ±0,1°C su tutta la superficie del wafer.

Uniformità on Warm IR Heater Supply Co.

Lampada per essiccazione del fotoresist a uniformità