Modulo di essiccazione dei wafer da 200 mm

Mon, 29 Jun 2026 02:22:43 +0800

Nella linea di produzione da 200 mm, la fase di essiccazione dopo la pulizia non rappresenta semplicemente un periodo di inattività. È proprio in questa fase che la tensione superficiale, i solventi residui e le microcontaminazioni determinano se lo strato successivo di fotoretico verrà applicato correttamente o meno.

Quello che conta davvero
Il modulo di essiccazione per wafer da 200 mm è progettato per garantire una precisione termica elevata. La zona di riscaldamento mantiene una temperatura uniforme pari a ±0,1 °C su tutto il piano del wafer; questo permette al fotoretico di funzionare in modo coerente, indipendentemente dalle condizioni di riscaldamento. La camera di essiccazione e i circuiti per l’alimentazione dei gas sono compatibili con ambienti di classe 1–100. Il sistema è progettato per eliminare qualsiasi contaminazione una volta che inizia a funzionare regolarmente. Noi misuriamo questa prestazione in termini di temperatura costante e velocità di riscaldamento costante, ciclo dopo ciclo.

Essiccazione on Warm IR Heater Supply Co.

Modulo di essiccazione dei wafer da 200 mm