Riflettore per lampada di essiccazione dei wafer

Fri, 17 Jul 2026 01:46:20 +0800

Fermate le vostre lampade a radiazioni infrarosse dal surriscaldare l’intera macchina
Se le radiazioni infrarosse si diffondono all’interno del telaio della macchina, c’è un problema di progettazione. Punto e basta.
Quando si utilizzano lampade a alta potenza, quelle radiazioni non rimangono confinate sul wafer: si diffondono ovunque. Se non si controlla dove va quel calore, le pareti interne della macchina assorbono tutto il calore prodotto. In breve tempo, l’esterno della macchina diventa così caldo da poter ustionare le persone presenti, mentre i ventilatori devono lavorare al massimo per mantenere la temperatura sotto controllo.

Cura on Warm IR Heater Supply Co.

Riflettore per lampada di essiccazione dei wafer