Scaldatore per essiccazione del wafer del sensore MEMS

Sat, 18 Jul 2026 01:52:04 +0800

Asciugamento dei wafer MEMS tramite radiazioni infrarosse
Quando si vuole asciugare i wafer dei sensori MEMS, è necessario trovare un equilibrio delicato: bisogna eliminare l’umidità, ma senza lasciare alcun residuo, e soprattutto senza danneggiare i componenti del dispositivo.
Ecco perché ricorriamo all’uso delle radiazioni infrarosse. Invece di utilizzare sostanze chimiche o riscaldare l’aria, le radiazioni infrarosse colpiscono direttamente le molecole d’acqua. Si tratta di un metodo più pulito, e si adatta perfettamente alle esigenze legate all’uso di standard ecologici e privi di piombo nei processi di produzione.

Audito energetico per la essiccazione in fabbrica

Thu, 16 Jul 2026 01:17:18 +0800

Smettete di riscaldare le pareti delle macchine: un modo migliore per asciugare i wafer
Se avete mai dovuto gestire i cicli di essiccazione in uno stabilimento di produzione, conoscete bene le difficoltà legate a questo processo. Si cerca di far asciugare il wafer, ma metà dell’energia utilizzata viene dispersa nel corpo della macchina stessa. È frustrante: le pareti interne si surriscaldano e la macchina diventa troppo calda da toccare, il che rappresenta un vero problema per chi deve mantenerla in funzione.

Asciugatura on Warm IR Heater Supply Co.

Scaldatore per essiccazione del wafer del sensore MEMS

Audito energetico per la essiccazione in fabbrica