Bersih on Warm IR Heater Supply Co.

Peningkatan peralatan ruang bersih di pabrik

Tue, 14 Jul 2026 12:07:21 +0800

Berhentilah membuang-buang energi di pabrik produksi wafer
Sejujurnya, pemborosan energi di pabrik produksi wafer bukan hanya masalah terkait anggaran saja. Hal ini juga merupakan risiko kontaminasi.
Ketika kita menggunakan elemen pemanas berdaya tinggi, sebagian besar energi inframerah tersebut hilang begitu saja. Energi tersebut tersebar ke segala arah dan menghilang ke dalam ruang kosong. Kita bisa mengatasi hal ini dengan menggunakan reflektor yang dilapisi emas. Dengan melapisi dinding ruangan dengan lapisan emas berkualitas tinggi, kita dapat memastikan bahwa seluruh energi panas kembali ke permukaan wafer.

Lampu inframerah untuk meja di ruang bersih

Sun, 12 Jul 2026 05:29:28 +0800

Mengapa kita menggunakan lampu IR di ruang bersih

Dalam proses pengeringan dan pematangan komponen di ruang bersih, oven konvensional biasanya tidak efektif digunakan. Terutama sekarang ini, ketika semua orang berusaha menggunakan bahan-bahan yang bebas timbal dan ramah lingkungan. Yang penting bukan hanya mengganti bahan kimia yang digunakan, tetapi juga cara untuk memasukkan panas ke dalam komponen tersebut.

IR vs. Udara Panas

Bayangkan oven biasa. Pada dasarnya, oven tersebut memanaskan udara di dalamnya, sehingga permukaan wafer belum tentu akan terkena panas. Ini merupakan pemborosan waktu dan energi.

Pemanas inframerah untuk oven di ruang bersih

Thu, 02 Jul 2026 02:43:55 +0800

Di area produksi yang bersih ini, perubahan suhu sebesar 1,2°C saja sudah cukup untuk mengubah profil fotoresisten yang seharusnya memenuhi standar menjadi bahan yang tidak bisa digunakan lagi. Kami merancang pemanas inframerah khusus untuk ruang bersih ini, agar fluktuasi suhu tersebut dapat dihilangkan. Pemanas ini dirancang untuk kondisi produksi semikonduktor, di mana batasan suhu sangat ketat, dan jumlah partikel harus tetap berada dalam kisaran satu digit saja.

Apa yang benar-benar penting? Kami menggunakan emitor inframerah berfrekuensi rendah yang memilikiRespons cepat dan kontrol spektral yang akurat. Dengan demikian, kita dapat menjaga keseragaman suhu di permukaan wafer hingga ±0,1°C. Kepastian suhu tetap terjaga dari siklus ke siklus, sehingga dimensi-dimensi kritis selama proses litografi tetap terjaga. Desainnya memungkinkan penggunaan di ruang bersih—arsitektur emitor yang tertutup dan bahan-bahan yang minim emisi partikel membuat jumlah partikel tetap rendah, bahkan di lingkungan kelas 1–100 sekalipun. Anda akan mendapatkan keandalan yang tinggi, tanpa adanya waktu henti yang tak terduga. Selain itu, konsumsi energinya lebih efisien dibandingkan pemanas konvensional, karena kita tidak perlu memanaskan massa yang besar.