Inframerah vs. Udara Panas: Berhentilah Menunggu Wafer Suhunya Naik
Saya masih melihat banyak pabrik semikonduktor yang masih mengandalkan udara panas untuk memanaskan wafer mereka. Itu merupakan cara lama dalam proses pemrosesan, dan sejujurnya, cara ini sangat merepotkan.
Masalahnya adalah waktu yang dibutuhkan untuk memanaskan wafer. Udara sama sekali tidak efektif dalam mentransfer panas. Anda harus menunggu cukup lama agar suhu wafer mencapai tingkat yang diinginkan. Rasanya seperti menunggu cat kering, sementara waktu produksi terus berlalu.
Biaya nyata dari penundaan
Pemanasan menggunakan sinar inframerah pada dasarnya menghilangkan kebutuhan akan udara panas sebagai media pemanas. Alih-alih memanaskan udara terlebih dahulu, sinar inframerah langsung mentransfer energi ke permukaan wafer. Proses ini berlangsung dengan cepat, bahkan secepat cahaya.
Ketika Anda sedang dalam proses produksi, ini merupakan keuntungan besar. Waktu yang diperlukan untuk memanaskan wafer berkurang dari menit menjadi detik. Anda tidak perlu lagi berjuang melawan efek termal akibat udara panas. Dengan demikian, biaya per batch produk berkurang, dan Anda dapat memproses lebih banyak wafer per shift.
Tapi bukan segalanya sempurna
Meski begitu, sinar inframerah bukanlah solusi yang sempurna untuk segala situasi. Intensitas panas yang dihasilkan oleh sinar inframerah bisa berbahaya jika posisi lampunya tidak tepat. Anda perlu sangat berhati-hati dalam menentukan posisi dan jarak antara lampu dan wafer. Jika salah, wafer bisa rusak.
Kami biasanya menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah, karena sinar ini dapat mencapai permukaan wafer lebih cepat. Namun perlu diingat bahwa lampu berdaya tinggi ini membutuhkan daya listrik yang besar. Pastikan panel listrik Anda mampu menangani lonjakan arus saat sistem dihidupkan,否则 Anda akan menghadapi masalah lain.
Beralih ke metode inframerah
Beralih dari penggunaan udara panas ke sinar inframerah tidaklah sederhana. Anda perlu menyesuaikan pengaturan PID-nya. Karena sinar inframerah bereaksi sangat cepat, pengaturan lama yang digunakan untuk oven udara panas akan menyebabkan sistem melebihi suhu target yang diinginkan. Pengaturan lama tersebut tidak cocok untuk sistem inframerah.
Anda juga perlu menyetel ulang sensor-sensor yang digunakan. Berhentilah memantau udara di sekitar wafer, dan mulailah memantau permukaan wafer itu sendiri. Setelah semua pengaturan selesai, proses produksi akan menjadi lebih cepat.