http://warm-ir-heater-supply.com/he/tags/%D7%A4%D7%95%D7%98%D7%95%D7%A8%D7%96%D7%99%D7%A1%D7%98/ Recent content in פוטורזיסט on Warm IR Heater Supply Co. Hugo he Tue, 23 Jun 2026 12:42:48 +0800 http://warm-ir-heater-supply.com/he/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/ Tue, 23 Jun 2026 12:42:48 +0800 http://warm-ir-heater-supply.com/he/posts/uniformity-photoresist-bake-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heater-supply.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="מנורת אפייה לחומרי פוטורזיסט אחידים"></p> <p>בתהליך הליתוגרפיה, שלב החימום אינו רק הפסקה בתהליך – הוא למעשה אמצעי לשליטה בתהליך. אם החימום אינו אחיד, זה יגרום לשינויים בעובי השבב, לגלים סטטיים ולירידה באיכות המוצר. עיצבנו את מנורות החימום שלנו כך שיוכלו לוודא שהחימום יהיה אחיד.</p> <p>העיקר הוא שליטה תרמית מדויקת, ישירות ברמת השבב. רכיבי הלוגן בתדרים נמוכים ובינוניים, בשילוב עם אופטיקה מקוורץ ומחזירי אור מיוחדים, מאפשרים תגובה תרמית מהירה ואחידה. בכל שטח החימום, אנו שומרים על אחידות בטמפרטורה של ±0.1°C.</p> <p>ומה לגבי חדר הניקיון? המערכת תואמת לתקני חדרי ניקיון מסוג 1–100, בזכות שימוש בחומרים שאינם פולטים גזים, ועיצוב שמונע יצירת חלקיקים במהלך הפעולה. התוצאה היא טמפרטורת חימום קבועה, שניתן לתעד, לבדוק ולהעביר בין מכונות שונות בצורה קלה.</p> http://warm-ir-heater-supply.com/he/posts/photoresist-baking-lamp/ Sun, 07 Jun 2026 01:06:26 +0800 http://warm-ir-heater-supply.com/he/posts/photoresist-baking-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heater-supply.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="מנורת אפיית פוטורזיסט"></p> <p>בקומת הליתוגרפיה, אפיית soft bake ו-hard bake אינן רק שלבים—הן &ldquo;לחיצות יד&rdquo; תרמיות. סטייה של חצי מעלה משנעת את ה-CD bias, ונקודה חמה יכולה להדפיס פגם שממשיך ב wafer עד להפסד בתפוקה. בנינו את מנורות האפייה לפוטורזיסט כך שישמרו את התקציב התרמי במיקום שבו התהליך דורש זאת.</p> <p>הגוף המרכזי הוא אינפרא-אדום סלקטיבי לפי אורך גל, המסופק על ידי פולטות קוורץ קצרות ובינוניות תדר, התואמות לספיגת הפוטורזיסט. משמעות הדבר חימום מהיר, ישיר אל הפוטורזיסט עם אחידות ברמת ה wafer של ±0.1°C על פני משטח האפייה. החזרתיות של הטמפרטורה עומדת על ±0.2°C בין אצווה לאצווה, כך שפרופיל תרמי זהה מגיע לכל wafer.</p>