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		<title>Sécurité on Warm IR Heater Supply Co.</title>
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				<title>Distance de sécurité pour le chauffage de la wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-supply.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Distance de sécurité pour le chauffage de la wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Arrêtez de gaspiller de la chaleur : une meilleure manière de chauffer vos wafers&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Chauffer un wafer en silicium semble simple, mais tout ingénieur qui a déjà travaillé sur ce type d’équipement connaît bien le véritable problème : la chaleur dispersée. Lorsque l’on utilise des chauffages classiques, l’énergie n’affecte pas seulement le wafer, mais aussi les parois intérieures de la chambre sous vide. Cela peut entraîner des dégâts graves : le châssis de l’appareil peut se déformer, ou pire encore, un opérateur peut se brûler dès qu’il ouvre l’appareil. C’est frustrant, et ce problème est en réalité évitable.&lt;/p&gt;</description>
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