Séchage on Warm IR Heater Supply Co.

Chauffage de séchage des wafers de capteurs MEMS

Sat, 18 Jul 2026 01:52:03 +0800

Séchage des wafers MEMS à l’aide de rayons infrarouges
Lorsque l’on s’occupe du séchage des wafers de capteurs MEMS, il convient de trouver un équilibre délicat. Il faut éliminer l’humidité, mais sans laisser de résidus. De plus, il ne faut absolument pas endommager les composants du dispositif.

C’est pourquoi nous utilisons la technologie de séchage par rayons infrarouges. Au lieu d’utiliser des produits chimiques ou de chauffer l’air, les rayons infrarouges agissent directement sur les molécules d’eau. C’est une méthode plus propre, et elle correspond parfaitement à l’évolution vers des normes écologiques et sans plomb dans les usines de fabrication.

Audit énergétique pour le séchage en usine

Thu, 16 Jul 2026 01:17:17 +0800

Arrêtez de chauffer vos murs : une meilleure façon de sécher les wafers
Si vous avez déjà eu à gérer les cycles de séchage dans une usine de fabrication de semi-conducteurs, vous savez à quel point c’est compliqué. On essaie de sécher les wafers, mais la moitié de l’énergie utilisée se perd dans le châssis de la machine. C’est frustrant. Au final, les parois intérieures de la machine deviennent trop chaudes pour être touchées, ce qui représente un véritable cauchemar pour celui qui doit entretenir cette machine.

Module de séchage de wafer 200 mm

Mon, 29 Jun 2026 02:22:42 +0800

Sur la ligne de 200 mm, le séchage après nettoyage n’est pas simplement une période d’inactivité. C’est à ce stade que la tension superficielle, les solvants résiduels et les micro-contaminations déterminent si la prochaine couche de photorésiste sera appliquée conformément aux spécifications – ou si cela entraînera des problèmes lors de la lithographie.

Ce qui est vraiment important en réalité Notre module de séchage pour wafers de 200 mm est conçu pour offrir une régularité thermique parfaite. La zone chaude maintient une uniformité de température de ±0,1 °C sur toute la surface du wafer. Ainsi, les températures requises pour le séchage permettent un comportement cohérent du photorésiste. La chambre et les circuits de distribution du gaz sont compatibles avec des salles propres de classe 1–100. Le système est conçu pour éviter tout risque de particules une fois qu’il fonctionne correctement. Nous mesurons cela de manière précise : même température, même taux de montée en température, cycle après cycle.