Lampe de cuisson pour photorésine

Sun, 07 Jun 2026 01:06:26 +0800

Sur la zone de lithographie, le soft bake et le hard bake ne sont pas seulement des étapes—ce sont des échanges thermiques contrôlés. Un décalage d’un demi-degré modifie le biais dimensionnel (CD), et un point chaud peut imprimer un défaut qui se répercute directement sur le rendement du wafer. Nous avons conçu nos lampes de cuisson pour photoresist afin de maintenir le budget thermique là où le procédé en a besoin.

Le cœur utilise un infrarouge sélectif en longueur d’onde, délivré par des émetteurs en quartz à ondes courtes et moyennes correspondant à l’absorption du photoresist. Cela permet un chauffage rapide et direct du résiste avec une uniformité au niveau wafer de ±0,1°C sur la surface de cuisson. La répétabilité de la température atteint ±0,2°C d’un lot à l’autre, garantissant que le même profil thermique est appliqué à chaque wafer.

Cuisson Au Four on Warm IR Heater Supply Co.

Lampe de cuisson pour photorésine