Module de séchage de wafer 200 mm

Mon, 29 Jun 2026 02:22:42 +0800

Sur la ligne de 200 mm, le séchage après nettoyage n’est pas simplement une période d’inactivité. C’est à ce stade que la tension superficielle, les solvants résiduels et les micro-contaminations déterminent si la prochaine couche de photorésiste sera appliquée conformément aux spécifications – ou si cela entraînera des problèmes lors de la lithographie.

Ce qui est vraiment important en réalité Notre module de séchage pour wafers de 200 mm est conçu pour offrir une régularité thermique parfaite. La zone chaude maintient une uniformité de température de ±0,1 °C sur toute la surface du wafer. Ainsi, les températures requises pour le séchage permettent un comportement cohérent du photorésiste. La chambre et les circuits de distribution du gaz sont compatibles avec des salles propres de classe 1–100. Le système est conçu pour éviter tout risque de particules une fois qu’il fonctionne correctement. Nous mesurons cela de manière précise : même température, même taux de montée en température, cycle après cycle.

200 Mm on Warm IR Heater Supply Co.

Module de séchage de wafer 200 mm