Arrêtez de chauffer vos murs : une meilleure façon de sécher les wafers
Si vous avez déjà eu à gérer les cycles de séchage dans une usine de fabrication de semi-conducteurs, vous savez à quel point c’est compliqué. On essaie de sécher les wafers, mais la moitié de l’énergie utilisée se perd dans le châssis de la machine. C’est frustrant. Au final, les parois intérieures de la machine deviennent trop chaudes pour être touchées, ce qui représente un véritable cauchemar pour celui qui doit entretenir cette machine.
Nous avons trouvé une solution en utilisant un système de chauffage par infrarouges directionnels.
Le truc, c’est de savoir où va la chaleur.
La plupart des chauffages fonctionnent comme des ampoules : ils émettent de l’énergie dans toutes les directions. Dans une usine exiguë, cette chaleur inutile n’a nulle part où aller, si ce n’est dans les murs. Nous utilisons des lampes à infrarouges à ondes courtes, accompagnées de réflecteurs qui agissent comme des projecteurs. Au lieu d’une chaleur diffusée, nous concentrons la chaleur en un faisceau précis.
Le résultat ? La chaleur atteint directement le substrat, tandis que le reste de la machine reste froid.
Cependant, il y a un compromis à faire.
L’avantage principal, c’est la vitesse. Il n’est pas nécessaire d’attendre que toute la chambre soit chaude. Les photons atteignent immédiatement le substrat. C’est rapide. Très rapide. De plus, comme nous utilisons une haute densité de puissance, l’appareil ne prend pas beaucoup de place.
Mais attention : il faut surveiller systématiquement le système de refroidissement. Alors que les murs restent froids, le boîtier de la lampe devient extrêmement chaud. Si le flux d’air n’est pas adapté au niveau de puissance utilisé, vous risquez deendommager les composants électriques ou de déclencher des capteurs de température.
Pourquoi se donner cette peine ?
Éliminer cet effet de « murs chauds » permet non seulement d’économiser de l’énergie, mais aussi de rendre l’environnement de travail plus sûr. Personne ne veut risquer de se brûler lors du chargement des wafers ou lors des vérifications de maintenance. De plus, cela permet d’obtenir un profil thermique plus uniforme sur les wafers, ce qui réduit considérablement le risque de déformation.
Nous avons conçu ces dispositifs pour qu’ils puissent être remplacés facilement. Il suffit de remplacer vos chauffages ordinaires par ceux-ci, de les connecter à un contrôleur PID pour maintenir une température précise, et c’est tout. Vous éviterez ainsi de gaspiller de l’énergie inutilement, et vous garantirez que la température de l’équipement reste suffisamment basse pour ne pas mettre vos opérateurs en danger.