Sauber on Warm IR Heater Supply Co.

Aufrüstung der Ausrüstung in den Reinräumen der Fabrik

Tue, 14 Jul 2026 12:07:21 +0800

Hören Sie auf, Ihre Energie in der Fertigung zu verschwenden!
Seien wir ehrlich: Die Verschwendung von Energie in einer Waferfertigungsanlage ist nicht nur ein finanzielles Problem – es stellt auch ein Kontaminierungsrisiko dar. Wenn man hochleistungsstarke Heizelemente verwendet, geht ein großer Teil der Infrarotenergie einfach verloren. Sie strahlt ab und verschwindet im Leeren Raum. Das können wir durch goldbeschichtete Reflektoren lösen. Indem wir die Kammer mit hochreinen Goldschichten auskleiden, zwingen wir die gesamte Wärme wieder auf den Wafer zurück.

Infrarotlampe für Arbeitsplätze in Saalräumen

Sun, 12 Jul 2026 05:29:27 +0800

Warum wir IR-Lampen in Reinräumen verwenden
Bei der Trocknung und Aushärtung auf einem Arbeitstisch in einem Reinraum reichen traditionelle Konvektionsöfen in der Regel nicht aus. Besonders jetzt, da alle auf „bleifreie“ und „umweltfreundliche“ Standards setzen. Es geht nicht nur darum, Chemikalien durch andere zu ersetzen – sondern auch darum, wie man die Wärme effektiv auf das zu behandelnde Teil überträgt.

IR gegen heiße Luft
Stellen Sie sich einen herkömmlichen Ofen vor: Eigentlich wird dort einfach nur Luft erhitzt – und die Metallwände des Ofens ebenfalls. Dadurch wird die Wärme nicht direkt auf das zu behandelnde Teil übertragen. Das ist eine Verschwendung von Zeit und Energie.

Heizung für Reinraumöfen – Infrarotheizer

Thu, 02 Jul 2026 02:43:55 +0800

Auf der Produktionsfläche kann bereits eine Temperaturänderung von 1,2°C ausreichen, um ein Photoresist-Material, das eigentlich den Anforderungen entsprechen sollte, unbrauchbar zu machen. Deshalb haben wir einen Infrarotheizer entwickelt, der solche Schwankungen ausgleicht. Er ist für die Realitäten der Halbleiterherstellung konzipiert – dort ist die Temperatur festgelegt und die Anzahl der Partikel muss im einstelligen Bereich liegen.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler mit schneller Reaktionszeit und präziser Spektralkontrolle. Dadurch können wir die Homogenität der Temperatur auf der Waferoberfläche bei ±0,1°C halten. Die Temperaturgenauigkeit bleibt dabei in jedem Zyklus konstant – dadurch bleiben die kritischen Abmessungen während der Lithografie stabil. Das Design ist außerdem für Umgebungen im Reinraum geeignet: Die abgeschlossene Strahlerarchitektur sowie Materialien mit geringer Ausgasung verhindern, dass die Partikkelanzahl ansteigt – selbst in Reinräumen der Klassen 1–100. So erhalten Sie 24/7 Zuverlässigkeit ohne unplanmäßige Ausfälle. Zudem ist der Energieverbrauch geringer als bei herkömmlichen Heizplatten, da nicht große Mengen an Material erhitzt werden müssen.