PID gesteuerter Halbleiterheizer

Sat, 27 Jun 2026 01:12:12 +0800

Auf der Produktionsfläche reicht bereits eine Abweichung von einem Halbdreigrad während des Weichbrennvorgangs aus, um die kritischen Abmessungen der Wafer zu beeinträchtigen und viele Wafer unbrauchbar zu machen. Man benötigt daher eine zuverlässige Heizquelle – eine Heizquelle, deren Leistung konstant ist und wiederholbar ist sowie deren Betrieb sauber verläuft.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben diesen PID-gesteuerten Halbleiterheizer entwickelt, damit er den thermischen Anforderungen moderner Prozessschritte gerecht wird. Die Schleifensteuerung hält die Temperaturen auf der Platte sowie auf der Heizplatte innerhalb von ±0,1°C konstant – dadurch bleiben die Parameter beim Fotolackprozess konstant und wiederholbar. Der Heizer eignet sich für Umgebungen der Klasse 1–100. Die verwendeten Materialien und Oberflächenbeschaffenheiten sorgen dafür, dass die Partikelzahl möglichst gering bleibt. Keine Partikelbildung ist dabei kein Slogan – es handelt sich dabei um eine Konstruktionsvoraussetzung – von den stark gasausstoßenden Heizelementen bis hin zu den versiegelten Wärmeübertragungsflächen.

Kontrolliert on Warm IR Heater Supply Co.

PID gesteuerter Halbleiterheizer