Einheitliche Lichtquelle für das Aushärten des Fotolacks

Tue, 23 Jun 2026 12:42:48 +0800

In der Lithografie-Produktion ist die Trocknungsphase keine Pause – sie stellt vielmehr eine Kontrollfunktion dar. Wenn die Trocknung nicht gleichmäßig erfolgt, hat das Auswirkungen auf die Dicke des Fotoleits, auf die Entstehung von Resonanzwellen sowie auf die Gesamtwirkung des Verfahrens. Wir haben unsere Lampen dafür entwickelt, diese Unregelmäßigkeiten auszuschließen.

Der Schlüssel dazu liegt in der präzisen Temperaturregelung direkt auf der Wafer-Oberfläche. Kurzwellige und Mittelwellenhalogenlampen in Kombination mit Quarzoptiken sowie speziell entwickelten Reflektoren sorgen für eine schnelle und reproduzierbare Temperatursteuerung. Auf der gesamten Trocknungsfläche wird eine Homogenität von ±0,1 °C gewährleistet.

Belichtungslampe für Fotoresist

Sun, 07 Jun 2026 01:06:26 +0800

Auf dem Lithographie-Boden sind Softbake und Hardbake nicht nur Schritte – sie sind thermische Handshakes. Eine Drift von einem halben Grad verschiebt den CD-Bias, und ein heißer Punkt kann einen Defekt drucken, der dem Wafer direkt in den Ertragverlust folgt. Wir haben unsere Photoresist-Bakelampen so konstruiert, dass das thermische Budget dort bleibt, wo es der Prozess benötigt.

Der Kern ist wellenlängenselektives Infrarot, geliefert durch kurz- und mittelwelliges Quarzstrahler, die auf die Absorption von Photoresist abgestimmt sind. Das bedeutet eine schnelle, direkte Erwärmung des Resists mit einer gleichmäßigen Temperaturverteilung auf Wafer-Ebene von ±0,1°C über die Bak-Oberfläche. Die Temperaturwiederholbarkeit liegt bei ±0,2°C von Charge zu Charge, sodass dasselbe thermische Profil jeden Wafer trifft.

Backen on Warm IR Heater Supply Co.

Einheitliche Lichtquelle für das Aushärten des Fotolacks

Belichtungslampe für Fotoresist