Hệ thống sưởi bằng tia hồng ngoại so với hệ thống sưởi bằng không khí nóng: Hãy ngừng chờ đợi cho đến khi các tấm wafer đạt đủ nhiệt độ đi.
Tôi vẫn thấy rất nhiều nhà máy sản xuất linh kiện bán dẫn vẫn sử dụng phương pháp sưởi bằng không khí nóng để làm nóng các tấm wafer. Đó là phương pháp cũ kỹ, và thực sự thì nó rất tốn thời gian.
Vấn đề nằm ở tốc độ truyền nhiệt của không khí. Không khí không thể truyền nhiệt hiệu quả. Bạn sẽ phải chờ đợi rất lâu để buồng sấy đạt được nhiệt độ mong muốn. Điều này giống như việc chờ sơn khô trong khi thời gian sản xuất vẫn tiếp tục trôi qua.
Chi phí thực sự của việc chờ đợi
Phương pháp sưởi bằng tia hồng ngoại giúp loại bỏ bước trung gian này. Thay vì sưởi một khối không khí lớn để truyền nhiệt vào silicon, tia hồng ngoại truyền năng lượng trực tiếp vào bề mặt tấm wafer. Quá trình này diễn ra với tốc độ ánh sáng. Khi bạn đang trong quá trình sản xuất, điều này giúp giảm thời gian chờ đợi từ vài phút xuống còn vài giây. Bạn không còn phải đối mặt với “trọng lượng nhiệt” của khối không khí nữa. Điều này có nghĩa là chi phí sản xuất mỗi lô hàng sẽ giảm, và bạn có thể xử lý nhiều tấm wafer hơn mỗi ca làm việc.
Nhưng đó không phải là giải pháp hoàn hảo
Tia hồng ngoại không phải là giải pháp hoàn hảo cho mọi trường hợp. Mặc dù nó có hiệu quả cao, nhưng cường độ nhiệt từ tia hồng ngoại có thể gây ra những vấn đề nếu các bóng đèn không được đặt ở vị trí phù hợp. Bạn cần chú ý đến vị trí và khoảng cách của các bóng đèn. Nếu làm sai, tấm wafer có thể bị biến dạng.
Chúng tôi thường sử dụng tia hồng ngoại tần số ngắn vì nó có thể truyền nhiệt nhanh hơn. Nhưng cần lưu ý rằng các bóng đèn công suất cao này sẽ tiêu tốt nhiều điện năng. Hãy đảm bảo rằng hệ thống điện của bạn có thể chịu đựng được dòng điện đột ngột này, nếu không bạn sẽ gặp nhiều vấn đề khác.
Chuyển đổi sang hệ thống sưởi bằng tia hồng ngoại
Việc chuyển từ hệ thống sưởi bằng không khí nóng sang hệ thống sưởi bằng tia hồng ngoại không đơn giản chỉ là thay thế bộ sưởi. Bạn cần điều chỉnh các bộ điều khiển PID. Vì tia hồng ngoại phản ứng rất nhanh, nên các thiết lập cũ dùng cho lò sưởi bằng không khí sẽ khiến hệ thống hoạt động vượt quá mức nhiệt độ mong muốn. Bạn cũng cần điều chỉnh lại các cảm biến. Hãy ngừng theo dõi nhiệt độ của không khí xung quanh tấm wafer và bắt đầu theo dõi nhiệt độ bề mặt tấm wafer thay vào đó. Khi mọi thứ đã được điều chỉnh xong, bạn sẽ có một hệ thống hiệu quả hơn, với tốc độ xử lý nhanh hơn.