W procesie litografii etap suszenia nie jest tylko przerwą w pracach – to raczej element sterujący. Jeśli suszenie odbywa się w nierównomierny sposób, ma to negatywny wpływ na grubość warstwy fotorezystu, powstawanie fal stojących oraz na jakość produktu końcowego. Stworzyliśmy specjalne lampy do suszenia fotorezystu, aby eliminować te problemy.
Podstawą jest precyzyjna kontrola temperatury bezpośrednio na poziomie płytki krzemowej. Elementy halogenowe o krótkich i średnich falach, połączone z kwarcowymi elementami optycznymi oraz specjalnie zaprojektowanymi reflektorami, umożliwiają szybką i powtarzalną regulację temperatury. Udało nam się utrzymać jednorodność temperatury na poziomie ±0,1°C.
A co z warunkami w pomieszczeniu czystym? Urządzenie jest kompatybilne z standardem klasy 1–100, dzięki użyciu materiałów o niskiej emisji gazów oraz konstrukcji, która eliminuje powstawanie cząstek podczas normalnej pracy. Dzięki temu można kontrolować temperaturę suszenia fotorezystu, a także łatwo przenosić daną informację między różnymi maszynami.
Proces produkcji półprzewodników opiera się na stabilności. Dzięki temu uzyskujemy powtarzalne wyniki przy każdej serii produkcji, mniej odpadów i mniej konieczności ponownej obróbki produktów. Zużycie energii jest mniejsze, ponieważ lampa szybko osiąga ustaloną temperaturę i utrzymuje ją bez przekroczeń, dzięki czemu nie traci się dodatkowej energii. W dużych zakładach produkcyjnych taka stabilność sprawia, że proces produkcji przebiega sprawnie, a koszt za pojedynczą płytkę krzemową pozostaje niski.
Jedna praktyczna uwaga: osiągnięcie jednorodności na poziomie ±0,1°C wymaga ścisłej integracji z kontrolerem grzałki oraz z mechanizmem rotującym płytki krzemowej. Dopasowanie mocy lampy do profilu termicznego urządzenia nie jest opcjonalne.
Oczekuj krótkiego czasu konfiguracji, aby ustawić odpowiednie parametry, czujniki oraz procedury suszenia. Po kalibracji system może pracować 24/7 bez przerw – ale ta początkowa konfiguracja stanowi część procesu instalacji.