در فرآیند پخت نرم، حتی اختلاف دمایی نیم درجهای هم میتواند باعث اختلال در ابعاد محصولات شود و منجر به اتلاف تعداد زیادی از ویفرها شود. بنابراین، نیاز به یک منبع گرمایی قابل اعتماد وجود دارد؛ یعنی منبعی که دمای ثابتی داشته باشد و بتوان از آن برای پخت ویفرها استفاده کرد.
چه چیزهایی اهمیت دارند؟
ما این گرمکن نیمههادی را با کنترل PID طراحی کردهایم تا با شرایط حرارتی لازم برای فرآیندهای پیشرفته سازگار باشد. سیستم کنترل حلقه بسته، دمای صفحه گرمکن و سطح ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد نگه میدارد؛ بنابراین پروفایلهای پخت ویفرها یکنواخت و قابل تکرار خواهد بود. این دستگاه برای محیطهای کلاس ۱ تا ۱۰۰ مناسب است؛ مواد و سطوح استفاده شده نیز به گونهای انتخاب شدهاند که تعداد ذرات موجود در محیط کاهش یابد. عدم تولید هیچ ذرهای، یک الزام طراحی است؛ این الزام از عناصر گرمکن با تولید گاز کم گرفته تا اتصالات حرارتی محکم، ادامه دارد.
چرا این دستگاه در فرآیندهای لیتوگرافی مؤثر است؟
در فرآیندهای لیتوگرافی و پردازش فوتورزیست، داشتن دمای یکنواخت، منجر به خطوط یکنواخت، کنترل بهتر ابعاد ویفرها و کاهش تعداد کارهای تکراری میشود. الگوریتم PID به سرعت به حالت تعادل میرسد؛ بنابراین پس از تغییرات در دستورالعملها، دما تغییر زیادی نخواهد کرد. این دستگاه حتی در صورت تغییر بار ویفرها نیز دمای مورد نظر را حفظ میکند؛ این امر باعث عملکرد پایدار در هر دو فرآیند پخت نرم و سخت میشود. همچنین، کنترل دقیق باعث صرفهجویی در انرژی میشود؛ زیرا از هدررفت انرژی برای جبران اختلافات دمایی جلوگیری میشود.
نکات عملی:
این دستگاه میتواند در فضاهای موجود قرار بگیرد؛ اما جرم حرارتی آن به طور عمدی بالاتر است تا یکنواختی دما بهبود یابد. بنابراین، برای رسیدن به وضعیت تعادل، نیاز به زمان بیشتری برای گرم شدن دستگاه وجود دارد. همچنین، این دستگاه به ولتاژ پایداری نیاز دارد؛ زیرا نویزهای موجود در سیستم میتوانند دما را از محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد خارج کنند. با تنظیم کنفیگوراسیون کنترلر متناسب با دستورالعملهای استفاده، این دستگاه میتواند عملکرد قابل تکراری ارائه دهد.