در خط تولید با قطر ۳۰۰ میلیمتر، حتی وجود یک نشانه آبی ریز روی سطح ویفر کافی است تا کل محموله مربوط به آن ویفر از کار بیفتد. در روش خشککردن معمولی، شما در واقع روی تفاوت دماهای موجود در سطح ویفر شرطبندی میکنید؛ اما چنین ریسکی در فرآیندهایی که در مقیاس نانومتر انجام میشوند، قابل قبول نیست.
چه چیزی اهمیت دارد؟
این دستگاه خشککن، یکنواختی دمایی در سطح ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد تضمین میکند؛ این اندازهگیری در سطح خود ویفر انجام میشود، نه روی سطح هیتر. این دستگاه از فرستندههای مادون قرمز کوتاهموج و مسیر جریان هوای بدون کوارتز استفاده میکند؛ بنابراین هیچ ذرهای در حین خشککردن اضافه نمیشود. سیستمهای مکانیکی و فیلترهای مربوط به خروجی گاز نیز به گونهای طراحی شدهاند که شرایط اتاق پاک را در سطح ۱ تا ۱۰۰ حفظ کنند. مدلسازی حرارتی مخصوص این دستگاه، بار حرارتی ویفر را جبران میکند؛ بنابراین پروفایلهای خشککردن ویفر قابل تکرار خواهند بود.
چرا این دستگاه در فرآیندهای لیتوگرافی و بستهبندی مفید است؟
در فرآیندهای لیتوگرافی، این دقت منجر به کنترل بهتر ابعاد حیاتی و کاهش عیبهای ناشی از مواد حلال باقیمانده میشود. عملکرد فوتورزیستها نیز در تمام محمولهها یکنواخت خواهد بود؛ همچنین، این دستگاه با خارج کردن مؤثر رطوبت، زمان پردازش را کاهش میدهد. همچنین، به دلیل پاسخگویی سریع حرارتی و کارایی بالا، مصرف انرژی نیز کنترل میشود. در فرآیندهای بستهبندی، این دستگاه از اکسیداسیون پس از پاکسازی جلوگیری کرده و چسبندگی مواد را در مرحله بستهبندی بهبود میبخشد.
چه چیزهایی باید در هنگام استفاده از این دستگاه در نظر گرفت؟
این دستگاه با استانداردهای FOUP و رابطهای SEMI سازگار است؛ اما هندسه قرارگیری ویفر و سیستمهای مهر و مومبندی درب، میتوانند جریان هوا را تحت تأثیر قرار دهند. بنابراین، لازم است یک آزمایش کوتاه انجام شود تا دمای مختلف نقاط روی ویفر اندازهگیری شود و مسیر خروجی گاز نیز با شرایط فشاری اتاق پاک هماهنگ باشد. پس از تنظیم صحیح، این دستگاه میتواند ۲۴ ساعته کار کند؛ همچنین، هشدارهای مربوط به نگهداری پیشگیرانه نیز وجود دارد تا توقفات غیرمنتظره از بین برود.