En la línea de 200 mm, el secado después de la limpieza no es simplemente un tiempo de inactividad del equipo. Es en este momento cuando la tensión superficial, los solventes residuales y las microcontaminaciones deciden si la siguiente capa de fotolíquido se aplicará según lo previsto… o si, por el contrario, causará problemas durante el proceso de litografía.
Lo que realmente importa Nuestro módulo de secado para obleas de 200 mm está diseñado con un perfil térmico reproducible. La zona caliente mantiene una uniformidad de ±0,1 °C en toda la superficie de la oblea, lo que permite que las temperaturas necesarias para el secado se mantengan constantes. La cámara y las vías de suministro de gas son compatibles con ambientes de tipo Cleanroom Clase 1–100. El sistema está diseñado para evitar cualquier tipo de contaminación una vez que está en funcionamiento estable. Lo medimos de esta manera: misma temperatura, misma tasa de enfriamiento, ciclo tras ciclo.
Por qué funciona así en la práctica En la práctica, este control térmico reduce los defectos que pueden surgir debido a la presencia de agua en la superficie de la oblea, lo cual a su vez evita pérdidas en la producción. Un control más preciso de la temperatura permite reducir el tiempo de secado sin sacrificar la calidad del producto. El resultado es menos defectos, menos desperdicios y una oblea realmente seca listas para el siguiente paso crítico, sin ningún riesgo de contaminación.
Qué hay que tener en cuenta El módulo puede integrarse en las herramientas existentes para procesar obleas de 200 mm. Sin embargo, los sistemas de extracción de gases y suministro de gas deben cumplir con los requisitos de presión y flujo del lugar donde se utiliza el equipo. Se necesita tiempo para ajustar el perfil térmico según las especificidades del fotolíquido utilizado. Una vez que todo esté ajustado, el rendimiento del equipo será estable. Pero hay que planificar ese tiempo de configuración con antelación, para así poder recuperar un rendimiento estable.