Auf der Wafer-Oberfläche sind die Profile zur Erhitzung des Photoresists nicht optional – sie bestimmen schließlich, ob es zu einem erfolgreichen Produktionsprozess kommt oder ob es zu Fehlern kommt. Eine Abweichung von 2°C bei der Erhitzung kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen verändert werden und es zu Problemen kommt. Wir haben unsere Infrarotlampen genau für diese Anforderungen entwickelt: um eine ausreichende thermische Stabilität zu gewährleisten, wo sie am meisten benötigt wird.
Technisch gesehen ist das, was wichtig ist, dasselbe wie im Produktionsprozess selbst.
Wir kombinieren Kurzwellen- und Mittelwellen-Infrarotstrahler mit Quarzkomponenten, um eine schnelle, gezielte Erwärmung sowie eine lange Lebensdauer zu erreichen. Die gewünschte thermische Homogenität auf der Waferoberfläche beträgt ±0,1°C über dem gesamten Belichtungsbereich. Die Wiederholgenauigkeit zwischen den verschiedenen Chargen liegt bei ±0,5°C. Die Ausgangsstabilität liegt bei einer Abweichung von weniger als 2% über 5.000 Stunden. Das Gehäuse ist dafür ausgelegt, 24/7 in Betrieb zu sein – mit Anschlussmöglichkeiten und Befestigungsoptionen, die zu den gängigen Standardaufbauten der Waferbearbeitungsmaschinen passen.
Deshalb eignet sich dieses System hervorragend für die Lithografie.
Das Gehäuse sorgt dafür, dass die Erhitzung des Photoresists innerhalb des zulässigen Temperaturbereichs bleibt. Die Kompatibilität mit Reinräumen der Klasse 1–100 wird durch Materialien mit niedrigem Gasausstoß sowie ein Design, das Partikelbildung minimiert, gewährleistet. Dadurch werden Fehler durch Partikel vermieden. Der Infrarotstrahler erwärmt den Photoresist direkt – dadurch wird weniger Energie verschwendet. Weniger Lampenwechsel bedeuten weniger unplanmäßige Stillstände. Zudem verbessern konstante Erhitzungsprofile die Kontrolle über die Abmessungen der Wafer und deren Oberflächenrauhigkeit.
Einige praktische Hinweise:
Passen Sie das Spektrum des Strahlers an die Empfindlichkeit Ihres Photoresists an. Stellen Sie außerdem sicher, dass die Brennfläche der Lampe parallel zur Waferoberfläche liegt. Eine Fehlstellung führt zu Unebenheiten auf der Waferoberfläche. Während des Aufwärmvorgangs entsteht eine kurze thermische Einwirkungszeit – diese Zeit sollte in die Startsequenz der Maschine einbezogen werden. Überprüfen Sie außerdem, ob die Spannung der Maschine sowie die Interlocksysteme mit den Eigenschaften des Gehäuses übereinstimmen. Falsche Verbindungen können die Lebensdauer der Lampe verkürzen und Sicherheitsprobleme verursachen.